反应磁控溅射法制备ZnN薄膜的工艺研究-山东建筑大学学报.PDFVIP

下载本文档

6
0
约2.13万字
约 6页
2019-02-09 发布于天津
举报
版权申诉

反应磁控溅射法制备ZnN薄膜的工艺研究-山东建筑大学学报.PDF

1、本文档共6页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

反应磁控溅射法制备ZnN薄膜的工艺研究-山东建筑大学学报

第３０卷第１期山东建筑大学学报Ｖｏｌ．３０Ｎｏ．１２０１５年２月　　　　　　　　ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＳＨＡＮＤＯＮＧＪＩＡＮＺＨＵＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ　　　　　　　　Ｆｅｂ．２０１５文章编号：１６７３－７６４４（２０１５）０１－００４７－０６反应磁控溅射法制备ＺｎＮ薄膜的工艺研究３２  孙舒宁，王凤翔，陈志华，付刚，张秀全（山东建筑大学理学院，山东济南２５０１０１）摘要：制备和研究高质量的ＺｎＮ薄膜有助于拓展新型薄膜材料体系。文章采用反应磁控溅射技术，研究不同３２的溅射功率、ＮＡｒ流量比、衬底类型和衬底温度等沉膜工艺对ＺｎＮ薄膜结晶质量的影响；采用ＸＲＤ、ＳＥＭ和２３２ＡＦＭ等测试手段，分析ＺｎＮ薄膜的微结构和表面形貌。结果表明：几种衬底上，以石英玻璃作衬底沉积的３２ＺｎＮ薄膜晶粒尺寸较大，衍射峰较强，且为多晶向薄膜；当ＮＡｒ流量比提高时，ＺｎＮ薄膜为单一择优取向３２２３２的结晶薄膜；衬底温度升高后，ＺｎＮ薄膜晶粒尺寸减小，但是单一择优取向不变；溅射功率提高后，薄膜晶粒尺３２寸增大，择优取向改变，由单一晶向变为多晶向，以＜１００＞晶向单晶硅作衬底可获得单一晶向ＺｎＮ薄膜，而３２以＜１１１＞单晶硅作衬底制备的ＺｎＮ薄膜经ＸＲＤ测试，未检测到ＺｎＮ晶体。３２３２关键词：磁控溅射技术；ＺｎＮ薄膜；衬底；择优取向３２中图分类号：０．４８４．１　　　　　文献标识码：ＡＴｅｃｈｎｉｃａｌｓｔｕｄｙｏｎＺｎＮｔｈｉｎｆｉｌｍｐｒｅｐａｒｅｄｂｙｒｅａｃｔｉｖｅｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ３２  ＳｕｎＳｈｕｎｉｎｇ，ＷａｎｇＦｅｎｇｘｉａｎｇ，ＣｈｅｎＺｈｉｈｕａ，ｅｔａｌ．（ＳｃｈｏｏｌｏｆＳｃｉｅｎｃｅ，ＳｈａｎｄｏｎｇＪｉａｎｚｈｕＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｊｉｎａｎ２５０１０１，Ｃｈｉｎａ）Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＲｅｓｅａｒｃｈａｎｄｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏｆｈｉｇｈｑｕａｌｉｔｙＺｎＮｔｈｉｎｆｉｌｍｃｏｎｔｒｉｂｕｔｅｓｔｏｔｈｅｅｘｐａｎｓｉｏｎｏｆ３２ｎｅｗｔｈｉｎｆｉｌｍｍａｔｅｒｉａｌｓｓｙｓｔｅｍ．ＭａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｗａｓｅｍｐｌｏｙｅｄｔｏｄｅｐｏｓｉｔＺｎＮｔｈｉｎｆｉｌｍｕｎｄｅｒ３２ｔｈｅｖａｒｉｅｄｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｐｏｗｅｒｓ，ＮＡｒｇａｓｅｓｆｌｏｗｒａｔｅｓ，ｓｕｂｓｔｒａｔｅｔｙｐｅｓａｎｄｔｅｍ