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犯学学报 ACTA0Ⅲ 硅[0A BIN工0A 19J~, 64 652
晶场效应和化学键性质对 Eu 光谱结构的影响
湔石清 石春山
(中国科学院长春应用化学研究所稀土化学与物理开放实验室,长春)
合成了掺 Eu+的单一氟化物五种和复台氟化物六种;研究了Eu讣在基质 中的跃迁发射 随晶
扬 、化学键性质变化 的规律.在一些低配位教、强晶场的体系中观察到 了Eu。的±呻 ±跃迁发射 ·
首次在室温下,观察到单一氟化物 AIF~:Eu 中的 ±跃迁发射.
在基质中E +离子通常可产生两种不同的跃迁发射:(1),~4PSd组态到基态4f(8m)
的允许跃迁,简称 d f跃迁;㈣ 4p(。 ) 4,(B8脂)同一组态内的禁戒跃迁.简称 f— f跃
迁.
EⅡa+的d f跃迁发射波长可在很大范围内波动,基本上覆盖了可见和紫外 区 (3彻 一
6400置),使Eu。+在作为荧光材料和可调谐固体激光材料方面有很大的优越性.EⅡ 的f—f
跃迁发射通常在3600孟 附近 由于其单色性好、温度猝灭小在作为特殊用途的荧光材 料和
紫外固体激光材料方面都很有意义,I起了人们的巨大兴趣 .
Eun在基质中通常表现为 d f跃迁发射,f— f跃迁发射要在一定条件下才能出现 ,
产生 f— f跃迁发射 的基质一般是复台氟化物,复合氧化物、氟卤化物 以及硫酸盐等.对于
l f跃迁发射产生的条件,Blassem.F0Ⅱa8越eT 、石春山 等在实验的基础上都提出了各 自
的判据.
本文报道在一些低配位数、强晶场的体系中也观察到Eu 的f— f跃迁发射,特别是 首
欢在室温下,观察到单一氟 化物 AIF8:EⅡ 中的 f f跃迁 发射,这 些 结 果 与Blase,
Fouassier的判据是不相符合的.
实 验
试剂 所用试剂 EⅡ。。a的纯度为99.99弗,M目Fj、OaF,为光谱纯试剂,NaF、KF-2H ,
N日。丑Fj、SrF~.BaF2、BeF卫’AIF,~3寺丑2O、Na~AIFe、Kl8i为化学纯试剂-ⅡF、HC1为分
‘J
析纯试剂.
1hl 合成 按照文献 [4]报道的方法制备丽成.
掺 Eu 氟化物样品的合成 将氟化物、EuF。称取一定量.研磨混匀,采用 固相扩散法合
成.用氲气保护(流量O.5L/min),掺 EⅡJ 的样品分别按下列温度灼烧:MF~(M ‘Mg、 ,
8r、Ba):1000。a;AIF3:9GO~C;Na~BeF :60O~C;KIBeF|:750~C~K gF4:990~C~N‰tAaF~,:
$00~C;Na~AIF 990~C;K|8i :750~C.其 中KI8i 由于易分解,应在密闭容器中灼烧.灼
烧时间均为4h.
测试仪器 激发光谱、荧光发射光谱采用 Ⅱi七achiI~PF-4分光光度计测得;晶体鳍构采
1。E8年 11月8日收到.国家自然科学基金资助的项目.
亿学学报 AoT CHI~vIIOASINI(],A 1990
甩 RigakuD/maxLIB型x一线衍射仪测得.
结 果 与 讨 论
掺杂 ElP 的单一氰化物样品 MF2(M—Mg、(】a、Sr、Ba)、AIF8基质中Eu 离子的电
子跃迁发射特性见表 l:
表 1 NF2、AIF3中Eu 离子4P5d吸收带下限能量与荧光光谱结构
4f l【吸收带下限能量 荧光光谱结构
基 质 测试温度 (E) (
em一) 跃迁发射类型 发射峰位置 (A)
A1F$ 300 ∞ 80O f÷ f 3590
M g 30O 273o0 ¨ f
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