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激光粒度仪在色釉料行业中的应用
郭 华 张福根
(珠海欧美克科技有限公司)
摘要
本文简述了激光粒度仪的原理和结构,指出了它的性能特点和对色釉料行业的适用性,举例说明了它在色釉料日常生产性测试和研发性测试中的作用,最后探讨实际应用中遇到的问题和及其解决办法。
关键词:色釉料,激光,粒度,测试
1 引 言
色釉料是陶瓷制品的“行头”,直接关系到陶瓷产品的“卖相”。随着我国陶瓷产品产量和质量的迅速提高,色釉料行业在最近10多年也迅速发展壮大,现已成为陶瓷产业的重要分支。从形貌上看,色釉料是一种粉体,其粒度分布直接影响到它的呈色特征和呈色强度,必须准确测定并加以严格控制 [1]。最早用来测量粒度的设备是标准筛,但是它只能测量一个或几个粒径点上的筛余量,不能给出详细的粒度分布;并且测试的劳动强度大、精度低。后来发展到用沉降式粒度仪测量,它虽然能够测得详细的粒度分布,但操作比较繁琐、重复性较差、测量范围窄。最新的方法是激光粒度分析仪。由于它具有测量范围宽、重复性好、速度快、操作容易等显著优点,非常适合色釉料行业的使用。为了色釉料行业的生产、技术和研究人员更好地了解和使用激光粒度仪,本文将介绍激光粒度分析仪的原理和性能特点,举例说明它在色釉料行业的具体应用,最后探讨使用中存在的问题及其解决办法。
2 激光粒度仪的原理和结构[2]
激光粒度仪利用了颗粒对光的散射(衍射)现象,即光在行进过程中遇到颗粒(障碍物)时,会有一部分偏离原来的传播方向;颗粒尺寸越小,偏离量越大;颗粒尺寸越大,偏离量越小(参见图1)。
光是一种电磁波,散射现象的物理本质是电磁波和物质的相互作用的结果。在球形、匀质、各向同性的假定下,散射现象可用严格的电磁波理论,即Mie散射理论描述。
图1 光的散射现象示意图
散射光场的强度分布为:
I(θ)=Ia(θ)+Ib(θ),
其中Ia和Ib分别表示垂直于散射面和平行于散射面的散射光强分布:
式中,θ表示散射角,al和bl的表达式如下:
此地,),,;式中,为介质的介电常数,为散射粒子的介电常数,为电导率,和分别为真空和介质中的光波长,r为粒子半径,而
其中,和分别是第一类贝塞尔函数和诺俟曼函数。和的表达式则为:
其为一次缔合勒让德多项式。
Mie理论是描述散射光场的严格理论,适用于经典物理意义上任意大小的颗粒。但是对大颗粒(),Mie散射公式及其数值计算都相当复杂。
当颗粒尺寸较大(至少大于2倍波长),并且只考虑小角散射时(散射角小于15°),散射光场可用较简单的Fraunhoff(弗朗和费)衍射理论近似描述:
。
式中,θ表示散射角,J1表示一阶贝塞尔函数,r 表示颗粒半径,f 表示光学系统的焦距,A 为常数, k=2π/λ(波数),λ为光的波长。
仪器结构见图2。
图2 激光粒度仪的经典结构
光电探测器阵列(见图3)用来测量散射光的分布。它是一系列的同心环,每个环都是一个独立的探测单元,其面积随着直径的增大而呈指数式增大。对某一固定粒径xi(=2ri)的颗粒,第j个探测单元接收到的光能是散射光强对该单元整个探测面的积分:
,
其中,θj和 △θj分别代表第j探测单元对应的散射角下限和角范围。因此尽管散射光的强度分布总是中心大,边缘小(见图1),但探测器测得的光能分布的峰值却总是在中心和边缘之间的某个单元上,见图4。当颗粒直径变小时,散射光的分布范围变大,光能分布的峰值也随之外移(见图4)。
图3 环形光电探测器阵列
图4 大小为8μm和16μm的颗粒产生的散射光能分布
仪器测量范围内所有代表粒径的一单位重量的颗粒散射在所有探测单元(n个)上的光能,就组成了光能矩阵,即:
矩阵中每一列代表一个代表粒径一单位重量的颗粒产生的散射光能分布。因此:
式中w1,w2,…,wn代表颗粒的重量分布。根据上式,只要已知散射光能分布s1,s2,…,sn,通过适当的数值计算手段可以计算出与之相应的粒度分布。图5是粒度分布曲线示例。
单峰分布
(b)多峰分布
图5 粒度分布曲线示例
3 激光粒度仪的性能特点及其对色釉料行业的适宜性
激光粒度仪的原理和结构决定了它的性能有以下特点:
(1) 能给出极为详尽的粒度分布数据(见本文第4节):包括粒度分布表、粒度分布曲线、中位径、平均粒径、边界粒径(用以科学地界定粒度分布范围)。 这些数据对确定色釉料颗粒的平均大小、均匀性(粗细搭配)、配料是非常有用的。
(2) 测量范围大,能覆盖色釉料的整个粒度范围:它在一个量程内就能测量小至亚微米(约0.1μm),大至数百微米的粉体粒度。在色釉料产品中有最细的釉下色料的粒度分布范围约为0.5~10μm,最粗的坯用色料粒度为20-45um。激光粒度仪能很好地满足这些要求。
(2) 测量速度快:测量
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