大口径光学元件薄膜厚度均匀性修正强激光与粒子束.PDF

　第 19 卷 　第 7 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol . 19 ,No . 7 　 　2007 年 7 月 H I GH PO W ER L A SER AND PA R T ICL E B EA M S J ul . ,2007 　 文章编号 : 　100 14322 (2007) 大口径光学元件薄膜厚度均匀性修正 王长军1 ,2 , 　熊胜明1 ( 1. 中国科学院 光电技术研究所, 成都 6 10209 ; 　2 . 中国科学院研究生院, 北京 100039) 　　摘 　要 : 　研究了2 . 2 m 高真空箱式镀膜机镀膜时的实际膜厚分布情况 。对非球面和平面光学元件 ,分别 采用行星夹具和平面公转夹具并利用修正板调节膜厚均匀性 。从实验上实现了大口径薄膜均匀性的调节 ,并 获得较为理想的结果 。口径在 700 mm 范围内,对于凹面均匀性可以控制在 0 . 7 % 以内,平面均匀性在 1 % 以 内; 口径在 1 200 mm 范围内凹面元件均匀性可控制在 1 %以内,平面 1 300 mm 口径以内窗口均匀性可控制在 1 %以内。镀制了口径在 400～1 300 mm 的多种天文观测上使用的反射镜 、增透膜等 ,获得了理想的光谱曲线 与较好的使用效果 。 　　关键词 : 　大口径光学元件 ; 　薄膜 ; 　均匀性 ; 　修正板 ; 　修正 　　中图分类号 : 　T H74 　　　　文献标识码 : 　A 　　薄膜厚度的均匀性不仅关系到镀膜成品率的高低 ,而且也会影响到镀膜面因膜厚分布不均匀而造成波面 变化[ 1] ,因此镀膜机的基板支撑架的设计需要考虑这点 。关于薄膜厚度均匀性调节 ,文献[ 2 ]介绍了采用平面 静止挡板透视投影设计用于 DM45D 镀膜机内膜厚均匀性调节 ,文献[4 ]理论分析了全介质窄带滤光片膜厚均 匀性 。离子束溅射技术制备的薄膜光学性能十分优异 ,但其成膜面积小 , 由于溅射原子的分布均匀性差 ,可以 通过添加修正板的方式在行星转动条件下对膜厚均匀性进行调节 。这仅限于光学元件的口径在 200 mm 左 [4 ] ( ) 右 ,但对于大口径 1 000 mm 以上 光学元件薄膜均匀性分布仍需进一步研究 。本文利用修正板调节了各种 不同类型大口径薄膜元件的均匀性 ,根据实验结果分析了大口径光学元件均匀性的调节方法 。 1 　膜厚理论分析 α 　　根据膜厚均匀性理论 ,设有质量为 m 的材料由一平面蒸发源发射出去, 则在离发射面垂直方向 角的立 体角 dΩ内沉积的膜料为 dM , 经积分后应得到 m = ∫dM ,此时 ( ) nα n + 1 mco s Ω ( ) dM = d 1 2π (