新型氧化铝模板自组装制备非晶碳纳米点阵列膜及其场发射-物理学报.PDF

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ’( ! ! ! ， ， ， 6H? +’( JH + ! :=0C=IV ! （ ） !$(4!4’( ! 4G$7’ )RS) TQ;.UR) .UJUR) ! RK0 + TKVW + .H2 + 新型氧化铝模板自组装制备非晶碳纳米 点阵列膜及其场发射性能研究! ）） ） ） ） ） ） ）） ! # ! $ 吴志国 张鹏举 徐 亮 李拴魁 王 君 李旭东 闫鹏勋 !）（兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室，兰州 %$’ ） ）（兰州大学物理科学与技术学院，兰州 %$ ） $ ）（中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室，兰州 %$ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） ( $ ! ( % % 通过对阳极氧化铝（ ）模板进行特殊扩孔处理，消除了 模板中带电阴离子对沉积碳离子的不良影响， ))* ))* 利用磁过滤阴极弧等离子体沉积技术成功制备了非晶碳纳米尖点阵列膜 场发射扫描电镜（ ）分析表明，经 + ,-.-/ 过氧化和扩孔多步处理制备的))* 模板具有特殊的开口结构，制备的非晶碳纳米尖点阵列完整地复制了))* 模 板的孔道阵列结构，纳米点排列整齐有序，直径约! 01，密度达!! 213 ，样品的场发射测试显示，非晶碳纳米点 阵列具有良好的电子发射性能，发射电流为! 1)4 213 时的阈值电场为$ 5% 64 1 + ! 关键词：阳极氧化铝，磁过滤阴极弧等离子体，场发射，无定形碳纳米点阵列 ： ， ， !## ’’ %(% 7!!8 晶碳膜表面比较平整，不具有高的场增强因子+ 本实 !5 引 言 验即将))* 模板与磁过滤阴极弧等离子体薄膜沉 积技术相结合，分析研究了))* 模板对于沉积碳离 纳米材料由于其具有的特殊性质，引起了科学 子的影响，通过对))* 模板的改进，避免了离子沉 家的广泛兴趣+ 其中纳米阵列结构以高度规则的纳 积过程中优先在))* 模板骨架上形成环状纳米结 米级有序结构，在数据存储、传感器、场发射阵列和 构，成功制备出具有较大场增强效应的高质量非晶 ［，］ 其他方面受到高度关注! + 有效制备规则有序，密 碳纳米尖点场发射体阵列膜+ 度可控的高质量纳米阵列结构材料仍是一项挑战+ 多