双咪唑光敏体系紫外光引发聚合甲基丙烯酸甲酯-影像科学与光化学.PDF

17 3 Vol. 17 , N o. 3 1999 8 PH OT O GRAPHIC SCI EN CE AN D PH O T OCHE M IST RY Aug. , 1999 研究论文 * * * 徐锦棋高放杨永源 李立东冯树京 ( , 100 10 1) 用光敏剂4, 4- 二( N , N- 二甲基- 氨基) 苯甲酮( 简称米氏酮, M K) 引发剂 邻氯代六芳基双咪唑( o- C-l H ABI) 和氢给体助引发剂十二烷基 醇( SH ) 组成光 敏引发体系. 研究了在高压汞灯照射下, 甲基丙烯酸甲酯( MM A) 光聚合速率和 该敏化体系每一个组分, 包括M Ko- Cl-HA BISH 和MMA 的关系, 还研究了该 体系在PS 版材上的应用, 并获得了很好的效果. 双咪唑, 光聚合, 光敏引发体系 20 , [ 1, 2] , 10% . , , , , [ 3] , . , . , , [ 2 , 4] , . [ 5 ~ 7] , , PS , , . 1 11 ( o- C-l HA BI) , , . 4, 4- ( N , N- - ) , ( M K ) , , . 1998 9 10 , 1998 11 10 . * ( 597730 11) * * 247 248 17 ( SH) , , . ( MMA ) , , , . , . 12 , . MK , o- C-l HABI, SH, M MA , . 500 W , 300 nm , 30 , 6 cm, 20 min , . , . 2 21 MK , , 356 nm, max 4 - 1 - 1 3. 41 10 mol Lcm , 1( a) . o- C-l HABI C N , m ax [ 8] , , 270 max nm, 2 . 58 104 mol- 1Lcm- 1, 1( b) . MK o- C-l HABI max 2. 1 2, , , , . 1 ( a) M K ( b) o- Cl-HA BI 2 M K o- C-l HA BI A bsorpt ion spect ra of ( a) M K ( 4 10- 5 mlo/ L) and Absorpt ion spect ra of M K ( 4 10- 5 mlo/ L) and ( b) o- Cl- HABI ( 4 10- 5 mol/ L) in CHC