氧分压对PLD制备ZnO薄膜结构和发光性质的影响-发光学报.PDF

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27 5 V ol127 N o15 2006 10 CH INESE JOURNAL OF LUM INESCENCE O c t. , 2006 : 1000-70 32( 2006 05-0787-05 氧分压对 PLD制备 ZnO薄膜结构和发光性质的影响 1 1 1 2 1 1 1 王 , 李清山, 陈 达, 孔祥贵, 张 宁, 赵 波, 郑学刚 ( 1. , 273165; 2. , 130033 : ( PLD , Si ( 100 c ZnO X ( XRD , ( SEM ( PL , , 10 Pa 100 Pa ZnO ( 002 ( FW HM , ( 002 , c, ( 002 , , , , UV : ; ; ; ; ( FW HM : O 472. 3; O 482. 31 PACC: 7 855 : A , PLD 1 引 言 , Zn O , , ZnO G aN PLD ZnO GaN ( ZnO , ( 3. 37 eV , ZnO S i, , ZnO 60 m eV Si ZnO ( GaN 26 m eV , ZnO , , , ZnO ZnO PLD n-Si( 100 ZnO ZnO , ZnO [ 1, 2] , , [ 3] [ 4] , ( MBE , PLD ZnO , ( PLD 2 实 验 , , , , T u iL aser , Th in F ilm S tar-20 K rF 248 nm, 20 ns, 5 H z, [ 5, 6] ZnO 200 m J n Si ( 100 : 2005-11-06; : 2006-03-11 : ( Y 2002A 09 : ( 1978 - , , , , E-m ail: phyw jj@ 163. com, T e:l ( 0537 4456094- 205 788 27 ZnO 1B1 1 ZnO XRD ( 002) FW HM ( S iO2 , T ablle 1 FWHM

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