基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO2复合薄膜性能-硅酸盐学报.PDF

· 1520 · 硅 酸 盐 学 报 2007 年 第 35 卷第 11 期 硅 酸 盐 学 报 Vol. 35 ，No. 11 2 0 0 7 年 1 1 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY November ，2007 基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO2 复合薄膜性能的影响 1 1 1 1 2 2 1 林明贤 ，赵高凌 ，汪建勋 ，翁文剑 ，刘军波 ，应益明 ，韩高荣 (1. 浙江大学材料科学与工程学系，硅材料国家重点实验室，杭州 310027 ；2. 杭州蓝星新材料技术有限公司，杭州 310027) 摘 要：以 Ti(OC H ) 为先驱体，SnO :F 镀膜玻璃为基板，采用常压化学气相沉积法制备了 TiO /SnO :F 复合薄膜。用扫描电镜、X 射线衍射、紫外– 3 7 4 2 2 2 可见–近红外透射光谱等手段对样品的物相和性能进行了研究。结果表明：金红石相的 SnO2 :F 底膜促进了 TiO2 金红石相的形成；当基板温度为 480 ℃ 时，TiO2/SnO2 :F 复合薄膜出现针状结构，但随着基板温度继续升高，针状结构消失。样品的可见光透过率随基板温度而变化，其值为 60%～90%， 基本满足建筑物的采光要求。当基板温度为 530 ℃时，TiO /SnO :F 复合薄膜的光催化性能最好。 2 2 关键词：二氧化钛；掺氟二氧化锡；常压化学气相沉积；节能；光催化性. 中图分类号：TB321，TG146.4 文献标识码：A 文章编号：0454–5648(2007)11–1520–06 EFFECT OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON THE PROPERTIES OF TiO COMPOSITE FILMS 2 DEPOSITED BY ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 1 1 1 1 2 2 1 LIN Mingxian ，ZHAO Gaoling ，WANG Jiangxun ，WENG Wenjian ，LIU Junbo ，YING Yiming ，HAN Gaorong (1. State Key Laboratory of Silicon Materials Science, Department of Materials Science Engineering of Zhejiang University, Hangzhou 310027; 2. Blue Star New Materials Technology Co. Ltd of Hangzhou, Hangzhou 310027, China) Abstract: TiO /SnO :F c