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专业成就品质 260种高纯特种气体的用途介绍 深圳沃飞科技有限公司是一家专门从事气体应用系统工程：电子特气系统、实验室气路系统、工业集中供气系统、大宗气体（液体）系统、高纯气体及特种工艺气体二次配管系统、化学品输送系统、纯水系统提供从技术咨询、整体规划、系统设计、选定设备、预制组件、项目现场安装建设、整体系统检测、维护保养等全套工程技术服务和配套产品于一体的高新技术企业。 工程项目覆盖半导体、集成电路、平板显示、光电、汽车、新能源、纳 米、光纤、微电子、石油化工、生物医药、各类实验室、研究所、标准检测等高科技行业；为客户提供高纯介质输送系统全套解决方案；逐步成为行业先进的整体系统供应商，下面我们来详细的介绍一下260种高纯特种气体的用途。 260种高纯特种气体的用途介绍。 1.氮气-N2,纯度要求99.999%,用作标准气、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序；电器、食品包装、化学等工业也要用氮气。 2.氧气-O2,99.995%,用作标准气在线仪表标准气、校正气、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。 3.氩气-Ar,99.999,用作标准气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、氮化、喷射、等离子干刻、载流、退火、搭接、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。 4.氢气-H2,99.999%,用作标准气、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工序；在化学、冶金等工业中也有用。 5.氦气-He,99.999%,用作标准气、零点气、平衡气、校正气、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。 6.氯气-Cl2,99.96%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、热氧化等工序；另外,用于水净化、纸浆与纺织品的漂白、下业废品、污水、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。 7.氟气-F2,98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼和金属氟化物等。 8.氨气-NH3,99.995%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采矿、橡胶等工业。 9.氯化氢-HCI,99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、热氧化、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。 10.一氧化氮-NO,99%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。 11.二氧化碳-CO2,99.99%,用作标准气、在线仪表标推气、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、载流工序警另外,还用于特种混合气、发电、气体置换处理、杀菌气体稀释剂、灭火剂、食品冷冻、金属冷处理、饮料充气、烟雾喷射剂、食品贮存保护气等。 12.氧化亚氮-N2O,(即笑气),99.999%,用作标准气、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、医月麻醉剂、烟雾喷射剂、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。 13.硫化氢-H2S,99.999%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。 14.四氯化碳-CCl4,99.99%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延丫、化学气相淀积等工序；另外,用作溶剂、有机物的氯化剂、香料的浸出剂、纤维的脱脂剂、灭火剂、分析试剂、制备氯仿和药物等。 15.氰化氢-HCN,99.9,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；制备氢氰酸溶液,金属氰化物、氰氯化物；也用于制备丙烯睛和丙烯衍生物的合成中间体。 16.碳酰氟-COF2,99.99%,用于半寻体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外,用作氟化剂。 17.碳酰硫-COS,99.99%,用作校正气；用于半导体器件制备工艺中离子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸盐和噻唑的合成。 18.碘化氢-HI,99.95%,用于半导体器件制备工艺中离子注入工序；还用于氢碘酸溶液制备。 19.嗅化氢-HBr,99.9%,用于半导体制备工艺中等离子干刻工序；用作还原剂,制备有机及无机澳化合物。 20.硅烷-SiH4,99.999%,电阻率100Ω/cm2,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相