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非均向性氧化锌系柱状薄膜在氮化镓发光二极体应用之研究
行
狀
精
類
行 年年
行 立 北
隆
參理劉
理
理
理
年
1
(ocean@ntut.edu.tw, NSC 97-2221-E-027-022)
(Radio-Frequency magnetron sputtering
system) (Glancing Angle Deposition, GLAD)
(indium zinc oxide, IZO) (glass)
GaN-based
(indium zinc oxide, IZO)
(transparent conductive oxide, TCO)
(indium Tin Oxide, ITO) 0.6eV In O :ZnO 9:1 5.2eV[1,2]
2 3
IZO ITO
ITO IZO
[1-6]
(Glancing Angle Deposition, GLAD)
[7]
(Radio-Frequency magnetron sputtering system)
(IZO)
GaN-based LED LED
(Radio-Frequency Magnetron sputtering system)
(IZO) (a) (b)
(α) (β) (a)
180° (1)
(2) IZO (In O
2 3
99.5% + ZnO 0.5% wt) (3)(IZO)
(4)
(FESEM) IZO X (XRD)
(5) GaN-based GaN-based
(a) (b)
(a) (b)(α)
(β)
(IZO)
Target Indium oxide (99.5%) + Zinc oxide(0.5%)wt
Target diameter 5 cm
Target-substrate distance 4 cm
Substrate Glass slide and GaN-based LED
Residual pressure 3×10-6 Torr
RF power 70 W
Sputtering ambient Ar (99.995%)
Ar gas
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