课件：第章双极型晶体管及相关器件二.ppt

由t2到QB=Qs时的t3这段时间称为存储延迟时间。当QB=Qs，器件在t=t3时进入放大模式，在这个时间点之后，集电极电流将以指数形式衰减到零。 导通的时间取决于能如何迅速地将空穴(p-n-p晶体管中的少数载流子)加入基极区域，而关闭的时间则取决于能如何迅速地通过复合将空穴移除。晶体管开关时最重要的一个参数是少数载流子的寿命τp，一个有效降低τp、使转换变快的方法是加入接近禁带中点的产生-复合中心。 双极型晶体管的频率响应与开关特性 由于HBT发射区和基区是不同的半导体材料，它们的禁带宽度差将对HBT的电流增益造成影响，当基区输运系数αT非常接近1时，共射电流增益可表示为 异质结双极型晶体管(HBT)是指晶体管中的一个或两个结由不同的半导体材料所构成。HBT的主要优点是发射效率较高，其应用基本上与双极型晶体管相同，但HBT具有较高的速度，可以工作在更高的频率。因为其具有这些特性，HBT在光电、微波和数字应用上非常受欢迎。如在微波应用方面，HBT常被用来制造固态微波及毫米波功率放大器、震荡器和混频器。 HBT的电流增益 ： 异质结双极型晶体管 发射区和基区中的少数载流子浓度可写为 对n-p-n型晶体管，将 代入 可得 异质结双极型晶体管 因此，由于HBT发射区和基区半导体材料的不同，它们的禁带宽度差将对HBT的电流增益造成影响，且 其中NE和EB分别是发射区和基区的掺杂浓度， NC和NV分别是导带和价带底的有效状态密度，EgE是发射区半导体的禁带宽度，NC’、NV’和EgB则是基区半导体上相应的参数. 异质结双极型晶体管 大部分HBT的技术都是在AlxGa1-xAs/GaAs材料系统中发展的，右图是一个基本n-p-n型HBT结构。n型发射区是以宽禁带的AlxGa1-xAs组成，而p型基区是以禁带宽度较窄的GaAs组成，n型集电区和n型次集电区分别以低掺杂浓度和高掺杂浓度的GaAs组成。 为了形成欧姆接触，在发射区接触和砷化铝镓层之间加了一层高掺杂浓度的n型砷化镓。因为发射区和基区材料间具有很大的禁带宽度差，共射电流增益可以提到很高。而同质结的双极型晶体管并无禁带宽度差存在，必须将发射区和基区的掺杂浓度比提到很高，这是同质结与异质结双极型晶体管最基本的不同处。 基本HBT结构 异质结双极型晶体管 ΔEV增加了射基异质结处价带势垒的高度，此效应使得HBT可以使用较高掺杂浓度的基区，而同时维持极高的发射效率和电流增益；高掺杂浓度则可降低基区的方块电阻，且基区可以做得很薄而不需担心穿通效应。穿通效应是指集基结的耗尽层往基极延伸，最后与射基结的耗尽层接触的现象。窄基区宽度可以降低基区渡越时间，且增加截止频率，这正是人们期望的特性。 右图是HBT在放大模式下的能带图，发射区和基区间的能带差在异质结界面上造成了一个能带偏移，事实上，HBT优异的特性是直接由价带在异质界面处的不连续所造成的。 异质结双极型晶体管 另一种异质结是硅/硅锗(Si/SiGe)的材料系统，此系统有几项特性在HBT的应用中非常具有吸引力。如同砷化铝镓/砷化镓HBT，硅/硅锗HBT也因禁带宽度差可重掺杂而具有高速能力。硅界面具有低陷阱密度的特性，可以减少表面复合电流，确保在低集电极电流时，仍可维持高的电流增益。另外，可与标准硅工艺技术相容也是一个深具吸引力的特性。 最近几年磷化铟(InP)系(InP/InGaAs或AlInAs/InGaAs)的材料被系统地研究，磷化铟系的异质结构有相当多的优点。InP/ InGaAs结构具有非常低的表面复合，而且InGaAs的电子迁移率较GaAs高出甚多，使其具有相当优异的高频表现，其截止频率可高达254GHz．此外，InP集电极在强电场时比GaAs集电极具有更高的漂移速率，其击穿电压亦比GaAs集电极高。 先进的HBT 异质结双极型晶体管 基极区域也可用缓变分布，以将由发射阿区到基区的禁带宽度减小，图中虚线显示缓变基区HBT的能带图，其中存在一内建电场Ebi于准中性基区内，导致少数载流子渡越时间降低，增加了HBT的共射电流增益与截止频率。 在前面基本HBT的能带图中，导带上的能带不连续ΔEC是我们所不希望的，因为此不连续迫使异质结中的载流子必须以热电子发射或隧穿的方法才能越过势垒，因而降低发射效率和集电极电流．此缺点可由缓变层和缓变基区异质结来改善。下图显示一缓变层加在射基异质结中的能带图，其中ΔEC已被消除，缓变层的厚度为Wg。 先进的HBT 异质结双极型