分析化学课件第十六章 色谱分析法概论.pptVIP

1．柱内一小段高度H内组分分配瞬间达平衡 2．流动相间歇式进入色谱柱 每次进入一个塔板体积 3．样品加0号塔板上 4．分配系数在各塔板上是常数 * 塔板理论假设： 把组分在两相间的连续转移过程分解为 在各个塔板中分配平衡过程 塔板理论实际上是用色谱过程的分解动作（慢镜头）解释分离机制，如果塔板数少，用二项式解释；多，用正态分布解释。 * 二、二项式分布 B组分： KB=1=Cs/Cm 若：Vm=Vs KB=ms/mm=1/1 质量分配和转移过程 假设单位质量组分，k＝1，色谱柱的塔板数为5 0 1 2 3 4 柱出口 * 第一次进流动相 第五次进流动相 第二次进流动相 第三次进流动相 第四次进流动相 0.5 0.5 0.25 0.25 0.25 0.25 0.125 0.25 0.125 0.125 0.25 0.125 0.063 0.188 0.188 0.063 0.063 0.188 0.188 0.063 0.032 0.126 0.188 0.126 0.032 0.032 0.126 0.188 0.126 0.032 0.016 0.079 0.157 0.157 0.079 0.016 0.016 0.079 0.157 0.157 0.079 0.016 组分加到 0号板 经过N次转移后，在各塔板内的质量分布符合二项式展开式： 例：k=1, N=2 * 转移N次后第r号塔板中的质量 即A,B两组分，转移N次后，重心分开 流出曲线符合二项式分布： * 流出曲线不对称 m （三）正态分布 * N大时，用正态分布表示浓度和t关系: C0为峰面积A * （四）理论塔板高度H和理论塔板数n t`R代替tR得neff和Heff 单位统一 例： 在柱长为2m、5%的阿皮松柱上、柱温为100°C，记录纸速度为2.0cm/min的色谱条件下，测定苯的保留时间为1.5min，半峰宽为0.10cm，求理论塔板高度及每米板数。 * 解： 二、速率理论塔板理论不能解释H受哪些因素影响用速率理论讨论影响H的因素 Van-Deemter 方程式： H=A+B/u+Cu * u=L/t0 u-载气线速度 （cm/s） A-涡流扩散项 B/u-纵向扩散项 Cu-传质阻抗系数 * （3）∵u 小分析时间长 ?实际u＞u最佳 这时，u适当大，曲线H增加不显著 (1) 当u＜u最佳，B/u主导，u↑，H↓ n ↑ (2) u﹥u最佳，Cu主导，u↑，H ↑ n ↓ 讨论 1.载气线速度u对分离影响 H=A+B/u+Cu 2. 操作参数 A、B、C对H影响 1）A项-涡流扩散相 颗粒大小不均匀，填充不均匀，组分柱中受阻力不同，走路经不同。 * * A=2λdp λ-填充不规则因子 dp-固定相的平均粒径 λ小，dp（相对）小，使A变小，H小 结论：填充均匀，dp合适 2） 纵向扩散项（分子扩散项）：B/u * 组分像塞子一样占据色谱柱，有很大的浓度梯度，而产生扩散，产生峰扩张 * B=?Dg ?-弯曲因子（柱中扩散有阻碍， ? ＜1) Dg-组分在载气中的扩散系数 ①时间t长（u小），H大 ②T柱温高，Dg大，H大 ③ M大，Dg小，H小 但是：M大，柱压大。 M大时，低线速度 M小时，高线速度 * 结论：M大，T小，t小（u大）好 3）传质阻抗项：C·u 传质过程 组分进入固定液——扩散至深部——随新流动相回到两相界面逸出——随流动相转移……（溶解－扩散－转移的过程） 传质阻抗 影响传质过程的阻力 既存在于固定相中也存在于流动相中 Csu---固定相传质阻抗 Cmu---流动相传质阻抗 * * 在GC中： 结论：①u小时，Cu小，H小 ②df小时，C小，H小