几种铋系复合光催化材料的制备及其光催化性能的研究-分析化学专业论文.docxVIP

几种 几种铋系光催化材料的制备及其光催化性能 摘要 II I I 几种铋系光催化材料的制备及其光催化性能 摘要: 铋系半导体是一种重要的光催化材料，但是单一的铋系半导体光催化材料量子 效率不高，而且容易发生光生电子-空穴复合，从而限制了铋系光催化材料的应用范 围。为了解决这一问题，本文通过合成复合铋系半导体材料，来提高其光催化活性。 主要研究内容包括以下几个方面： 以 Na2WO4·2H2O 和 Bi(NO3)3·5H2O 为原料，采用机械球磨和煅烧两步制备出 复合 Bi2O3/Bi2WO6 纳米复合物。通过 X-射线衍射分析、紫外-可见漫反射光谱对 Bi2O3/Bi2WO6 进行表征。通过改变实验条件，研究了各种反应因素（如球磨时间，煅 烧时间，Bi2O3 负载量）对合成产物组成的影响。光催化性能测试结果表明：合成的 Bi2O3/Bi2WO6 在可见光的照射下对罗丹明 B 有很好的降解效果，光照 2 h 后其对罗丹 明 B 可以达到 98%的降解率。 以 NH4VO3 和 Bi(NO3)3·5H2O 为 原 料 ， 采 用 机 械 球 磨 和 煅 烧 两 步 法 制 备 Bi2O3/BiVO4 纳米复合物。通过 X-射线衍射仪、紫外-可见漫反射光谱对产物进行表 征。考察了球磨时间对复合物组成的影响。光催化性能测试结果表明：合成的 Bi2O3/BiVO4 在可见光的照射下 2 h 对 MO 的降解率可达 85%。 以商品 Bi(OH)3 和 NH4VO3 为原料，通过简单的热溶剂法制得 Bi(OH)3/BiVO4 复 合物。借助 X-射线衍射仪、扫描电镜和紫外-可见漫反射光谱对所得的样品进行表征。 考察了纳米复合物中 Bi(OH)3 和 BiVO4 的不同比例对复合物光催化活性的影响，结果 表明 4 Bi(OH)3/BiVO4 复合物的催化活性最好。 以 Na2WO4·2H2O 和 Bi(NO3)3·5H2O 为原料，通过控制 HNO3 的加入量和反应 温度，制得 H2WO4/Bi2WO6 纳米复合物。借助 X-射线衍射仪、透射电镜对所得样品 进行表征。通过改变实验条件，考察了酸的加入量和反应温度对合成复合物组成的影 响。光催化性能测试结果表明：合成的 H2WO4/Bi2WO6 在可见光的照射下对 MO 有 很好的降解效果，并且明显高于单一的 H2WO4 和 Bi2WO6。 关键字：铋系；纳米复合物；光催化剂；光催化活性 几种 几种铋系光催化材料的制备及其光催化性能 Abstract I I Preparation and Photocatalytic Performances of bismuth compound photocatalytic material Abstract：Bismuth is an important semiconductor photocatalytic material， however, single bismuth semiconductor photocatalytic materials quantum efficiency is not high, but also prone to the photogenerated electron hole recombination, which limits the scope of application of bismuth based photocatalytic materials. In order to solve the problem, we synthesized compound bismuth semiconductor materials, to improve its photocatalytic activity. The main contents include the following aspects: By Na2WO4·2H2O and Bi(NO3)3·5H2O as raw materials, using the solid-phase method, by ball milling and calcining the two step to prepare composite Bi2O3/Bi2WO6 nano composites. The Bi2O3/Bi2WO6 were characterized by XRD, DRS. By changing the experimental conditions, the effects of various factors on the reaction (milling time, annealing time, Bi2