电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律.docx

电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律王季1 ，索来春1 ，关丽丽2 ，付宜利1 电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律 王季1 ，索来春1 ，关丽丽2 ，付宜利1 ( 1． 哈尔滨工业大学 机电工程学院，黑龙江 哈尔滨 150001; 2． 哈尔滨工业大学 理学院，黑龙江 哈尔滨 150001) 摘 要: 表面粗糙度是衡量抛光效果的最主要标准． 依据电解质等离子抛光机理建立表面粗糙度随时间变化的数学模 型，实验得出一定条件下经过不同的抛光时间之后试件表面的实际粗糙度值，用这些实验数据和数学模型进行非线性拟 合，并根据拟合结果对数学模型进行了修正． 修正后的数学模型与实验数据的拟合程 度 很 好，校正可决系数达到了 0． 97139． 在不同的抛光液温度下，又进行了 2 组实验，验证了修正后的数模模型与实际抛光时的情况基本一致． 关键词: 电解质; 等离子粗糙度; 抛光时间; 数学模型 doi: 10． 3969 / j． issn． 1006-7043． 201203060 网络出版地址: http: / / www． cnki． net / kcms / detail /23． 1390． U． 1138． 007． html 中图分类号: TG175 文献标志码: A 文章编号: 1006-7043( 2013) 2-0227-06 Regularity of surface roughness with polishing time in electrolysis and plasma polishing WANG Ji1 ，SUO Laichun1 ，GUAN Lili2 ，FU Yili1 ( 1． School of Mechatronics Engineering，Harbin Institute of Technology，Harbin 150001，China; 2． School of Science，Harbin Insti- tute of Technology，Harbin 150001，China) Abstract: Surface roughness is the most important standard to measure the polishing effect． The mathematic model of surface roughness with polishing time in electrolysis and plasma polishing is established on the basis of the polis- hing mechanism in this paper． The roughness of the specimen with different polishing time was measured． Nonlin- ear fitting of the experimental data and the mathematic model is carried out，by which the mathematic model is im- proved． It is reasonable and feasible to use the improved mathematic model to fit the data and the adjusted coeffi- cient of determination is 0． 97139． Two other groups of experiments were done to verify the improved mathematic model is mainly in accordance with the actual polishing case． Keywords: electrolyte; plasma polishing; surface roughness; polishing time; mathematic model 电解质等离子抛光是一种针对金属工件的全新 绿色抛光方法，既可以高效地抛光形状复杂的工件， 抛光过程中也不会产生污染，完全可以取代机械抛 光、化学抛光、电解抛光等传统的抛光方法，解决机 械抛光难于处理形状复杂的工件和化学抛光、电解 抛光必须使用强酸或者强碱等 高污染抛光液的问 题［1］，同时抛光 过 程 中 不 存 在 宏 观 力，不 会 在 工 件 表面留下微 裂 纹 和 残 余 应 力，而影响工件寿 命［2］， 具有很大的发展潜力，可以应用于国防工业、航空工 业的高质量精密工件的表面