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* * 本章要点 1、吸附与偏析 2、表面扩散和界面扩散(重点) 3、表面力 第九章:表界面的结构与行为(一) 1、吸附与偏析 一、吸 附 吸附:气相原子在固——气或液气表面、界面的富集; 偏析:液相或固溶体中原子或分子在固液界面上的富集; 产生富集原因:表界面处晶体结构的严重畸变或有殘留的未配对键; 三种理论描述: 1)热力学理论 — 用热力学关系,求吸附物质量和压力、温度间关系, 结论有普遍性,经典理论; 2)微观理论 — 用量子力学处理吸附原子与衬底间及吸附原子间相互作用; 3)统计理论 — 综合热力学和微观理论,用统计力学方法求系统配分函数计算; 吸附分二类:物理吸附、化学吸附。 a)物理吸附:原子间不发生电荷转移,只是配成电矩;电矩间的相互作用表现为表面与被吸附原子间的范德华能: 其中: 气体分子被极化产生的作用能; 分子具有表面电场产生的附加能; 具有电四极矩和表面电场的分子的作用能; 吸附的多原子间的范德华作用能。 表界面的结构与行为(一) 范德华能 E(r) 与距离 r 图如下: 吸附原子距表面为 r0 时,系统能量最低。 范德华能与距离的关系 表界面的结构与行为(一) b)化学吸附:原子间发生电荷转移,形成局部离子键或(配位)共价键;分别叫作离子吸附和共价吸附; 对应的力为静电力和短程化学亲和力。 有些气体既发生物理吸附同时发生化学吸附,吸附曲线如下: 曲线有两个极小值: A — 物理吸附; C — 化学吸附; 表界面的结构与行为(一) 物理吸附和化学吸附同时存在时的吸附能曲线 金属表面示意图 固体表面上的原子或离子与内部不同,它们还有空余的成键能力或存在着剩余的价力,可以与吸附物分子形成化学键。由于化学吸附的本质是形成了化学键,因而吸附是单分子层的。 离子型晶体的表面示意图 氢分子经过渡状态从物理吸附 转变为化学吸附的示意图 说明: (a)化学吸附是短程作用;物理吸附是长程作用 ( r0 rc ) (b)从物理吸附过渡到化学吸附时要经过一个势垒(EB — 物理吸附与化学吸附曲线相交点). 表界面的结构与行为(一) 当 EB 0 时, 是缓慢的活化化学吸附;正值表示是排斥势; 当 EB ≤ 0 时,是快速的非活化化学吸附; 负值表示是吸引势; (c)化学吸附能比物理吸附能大;键合能比范德华能大。 吸附公式: 1)单分子层等温吸附公式:朗格缪尔公式,假设: a、气体在固体表面为单分子吸附,只有气体分子或原子撞到“空白” 的固体表面才被吸附; b、被吸附的分子脱离固体表面的几率不受周围吸附分子影响,表面是均匀的,吸附分子只与衬底表面原子作用,无相互作用,表面覆盖率: ?:固体表面的覆盖率; b:分子在固体上的吸附系数; p:气体分压; ? — P 关系曲线如图示 P/p0 ? 0 1 朗格缪尔等温吸附曲线 表界面的结构与行为(一) 表界面的结构与行为(一) 2)多分子等温吸附公式:BET 公式 多层吸附:第一吸附层由固 — 气分子间引力构成;第二层以上是气体分子间引力。 多分子引力公式: V:气体分压为 p 时有体积; Vm:表面第一层吸附气体的体积; p0:饱和蒸汽压 c:常数 3)焦姆金等温公式 假定:吸附率随覆盖率线性下降,得焦姆金公式: 只能对化学吸附中,吸附率随覆盖率线性下降的情形有用; mco 是与温度和吸附性质有关的常数。 表界面的结构与行为(一) 4)弗莱德理希等温公式 假定:吸附率随覆盖率呈对数下降,得弗莱德理希等温公式: 在θ=0.2 ~ 0.8,对物理、化学吸附中,吸附率随覆盖率对数关系下 降的情形有用;B,n 是和温度吸附剂及吸附种类有关的常数。 气体分子在金属表面聚集,形成岛状结构 表界面的结构与行为(一) 二、偏 析 偏析:指溶质在表面或界面的富集; 如果溶质在表面或界面的浓度比体内低,称:耗尽。 根本原因:表界面处晶体结构严重畸变或有殘留的未配对键。 偏析和耗尽表现在:腐蚀、氧化、吸附、扩散、摩擦结晶和薄膜生长等物理化学过程,及光吸收和反射、电子发射、薄膜态等光电磁性质; 表界面的结构与行为(一) 表界面的结构与行为(一) 偏析分两类: 平衡偏析:发生在 1 nm 薄表界面; 非平衡偏析:发生在 1 nm 表界面; 偏析两种研究方法: 直接测量法:表面分析方法和化学腐蚀电子探针等常规方法。 间接测量法:临视材料某些受偏析影响的性质来测量偏析方法。 偏析公式: 1)一般公式:麦克莱恩公
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