光诱导聚合蒙脱土插层纳米复合材料的研究.pdf

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2019-05-25 发布于天津
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19 4 Vol. 19 No.4 2001 11 PHOTOG APHIC SCIENCE AND PHOTOCHEMIST Y Nov., 2001 研究论文 1 2 2 1 2 2 王慧敏, 梅明华, 姜永才, 李青山, 张晓宏, 吴世康 ( 11 , 161006; 21 , 100101) : 用两种光聚合法研究了蒙脱土插层复合材料的制备.用小角X 光衍射技术对产物内蒙脱土的构进行表征, 果表明, 蒙脱土经改性后能很好地使聚合单体及预聚物插入黏土层内并在光照下/ 就地0聚合生成光聚合复合材料. 对光聚合法制备蒙脱土纳米复合材料的优缺点进行了初步讨论. : 光聚合; 蒙脱土; 插层; 小角X-光衍射技术; 纳米复合材料 : 1000-3231(2001) 04-0250-07 : O644 : A , , / 0/ . [1] [ 2] : ( ) [ 3] [4] [5] [2] : , ., . , ,. , . , , . , . ,, , . : : 2001-01-03; : 2001-03-22; : : ( : ; 973 (G2000078100) : ( 1969- ) , , , . 250 4 : 251 [6,7] , (photo-acid generation system) , . : + + H y Sen.H . , , , : + SenÛ.H ,,. , . 1 111 : . ., ( 100 g 80 ) , , , . ,. , , . [ 8] -(HMMM) . 2--4, 6-( )-1,3,5-(TCTA) , -(N,N-) ( DMBA) . EFI D.Burr , . . 112 -(0106 g) ( 1 mL) , 01006 g, 1 h , 01006 gTCTA . (0.02 g HMMM 015 mL ) DMBA 01004 g, . , , 120 e , . ( 2 mL) (0. 188 g) 1 h, , 0. 0562 g,. 252 19 . -