化学气相沉积三甲基氯硅烷制备两亲性HZSM.pdf

第 30 卷 第 6 期 催 化 学 报 2009 年 6 月 Vol. 30 No. 6 Chinese Journal of Catalysis June 2009 文章编号: 0253-9837(2009)06-0503-06 研究论文: 503~508 化学气相沉积三甲基氯硅烷制备两亲性 HZSM-5 沸石 蒋 平, 马 丽, 潘 剑, 淳 远, 须沁华, 董家騄 南京大学化学化工学院介观化学教育部重点实验室, 江苏南京 210093 摘要：以三甲基氯硅烷 ((CH ) SiCl)为改性剂, 采用化学气相沉积法对 HZSM-5 沸石外表面进行修饰, 再通过控制后处理抽空温 3 3 度, 制得两亲性沸石样品. 在沉积过程中, 改性剂与沸石外表面末端硅羟基作用形成亲油性基团, 使得样品主要呈现出亲油性; 经 423~523 K 抽空处理后, 沉积的 (CH ) Si 基团发生 Si–C 键断裂而脱附出 1~2 个甲基, 样品表现出两亲性能. 该改性过程对 3 3 HZSM-5 沸石的孔道大小和内表面性质影响很小. 在乙酸异戊酯相界面催化水解反应中, 该两亲性沸石分布于水/ 油两相界面, 表现出明显高于亲水性母体 HZSM-5 沸石的催化活性. 关键词：三甲基氯硅烷; HZSM-5; 两亲性沸石; 化学气相沉积; 相界面催化 中图分类号：O643 文献标识码：A Preparation of Amphiphilic HZSM-5 Zeolite by Chemical Vapor Deposition of Trimethylchlorosilane * JIANG Ping, MA Li, PAN Jian, CHUN Yuan , XU Qinhua, DONG Jialu Key Laboratory of Mesoscopic Chemistry of Ministry of Education, School of Chemistry and Chemical Engineering, Nanjing University, Nanjing 210093, Jiangsu, China Abstract: Amphiphilic HZSM-5 zeolite particles were prepared by the chemical vapor deposition (CVD) of trimethylchlorosilane ((CH ) SiCl) followed by heating and evacuation. During CVD, (CH ) SiCl reacted with terminal silanols on the external surface of HZSM-5 3 3 3 3 to generate hydrophobic groups. The resulting zeolite particles were hydrophobic. During heating of the zeolite pa