脉冲磁控溅射电源关键技术的分析-材料加工工程专业毕业论文.docxVIP

论文 论文题目：脉冲磁控溅射电源关键技术的研究 学科专业：检测技术及其自动化装置 研 究 生：黄烨琳 签 名: 指导教师：黄西平 副教授 签 名: 摘 要 脉冲磁控溅射电源是磁控溅射镀膜工艺中的核心设备，电源性能的优劣直接影响到所 镀膜层质量。本文通过前期调研，得到了当前磁控溅射工艺对电源装置所需的提高功率密 度、解决功率器件发热较为集中等几项关键技术仍有待精进，并根据需求选择了其中提升 功率密度、优化散热设计等进行专项突破。设计了适用于该电源的主电路拓扑结构以及相 应的软开关技术，并对整个电源的散热系统进行了相应的设计与优化。 本文首先针对提升功率密度减小开关应力的问题提出采用 IPOS（输入并联输出串联） 系统集成结构的思路进行了阐述，并成功实现了全桥变换器的软开关，并对移相全桥及后 级斩波电路的各个工作模态进行了模态分析。同时，针对脉冲磁控溅射电源其脉冲输出特 性对功率器件所带来的热效应进行了研究，采用热阻等效的方法设计了一整套完整的散热 系统。 其次，根据电源技术指标，计算了主电路各项参数并对所使用的器件进行了选型，在 Pspice10.5 仿真环境下对其原理进行了仿真验证。通过 FLOTHERM 软件进行了系统热场 仿真研究，对散热器的选型以及风机选型进行了优化，得出了常规的散热系统选择方法。 最后，在理论与仿真分析的基础上搭建实验平台，进行实验验证，实验结果显示：主 电路参数设计合理，器件选型满足要求，变换器成功实现了 ZVS，且设计的散热系统散 热效果良好，其设计方法简单有效。 关键词：脉冲磁控溅射电源；IPOS；软开关；FLOTHERM；电源系统热设计 II II Ab Abstract Title: RESEARCH ON KEY TECHNOLOGIES OF PULSE MAGNETRON SPUTTERING POWER SUPPLY Major: Detection Technology and Automation Installation Name: Yelin Huang Signature: Supervisor：Prof. Xiping HUANG Signature: Abstract Pulse magnetron sputtering power is the core equipment of sputtering magnetron sputtering process. The power output performance will directly affect the quality of the coating film. Through preliminary research, magnetron sputtering process has some key technologies demands, and this paper chose some to breakthrough. First,designed main circuit topology and used some soft-switching technology. Secondly, optimized cooling system of power supply. Finally, proved that the design of the circuit and the cooling system of the feasibility and correctness though simulation and experimental verification. At first,this article described IPOS (input parallel output series) system integration architecture, and analyzes the two ZVS phase-shifted full-bridge converter work modes. Analyzed the work modes of output circuit at the same time. Meanwhile, proposed a designed method of how to make a cooling system. According to the power specifications, designed the main circuit parameters and selected devices.However, simulated under Pspice10.5 simulation environment. Optimiz