第8章材料加工新技术.pptVIP

chapter 10 山东大学材料学院李丽编写 第八章 材料加工新技术及其原理 8.9 晶体生长技术 8.9.3 熔体生长 　 　 焰熔法：这个方法的原理是利用氢和氧燃烧的火焰产生高温，使材料粉末通过火焰撒下熔融，并落在一个结晶杆或籽晶的头部。由于火焰在炉内形成一定的温度梯度，粉料熔体落在一个结晶杆上就能结晶。 8.6 表面改性 8.6.3 化学气相沉积(CVD) 把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体，借助气相作用或在基体表面上的化学反应在基体上制得金属或化合物薄膜的方法。 主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。此外，还有有机金属化学气相沉积以及激光（电子束）化学气相沉积。 8.6 表面改性 CVD法制备薄膜的过程，可以分为下面几个主要的阶段： ①反应气体扩散至工件表面； ②反应气体分子被基材表面吸附； ③在基材表面发生化学反应； ④反应生成的气相副产物由基片表面脱离，被真空泵抽掉； ⑤在基片表面留下的固体反应产物在基片表面扩散、形核，形成薄膜。 8.6 表面改性 CVD设备示意图 CVD设备: 1.送气装置; 2.反应室; 3.加热装置; 4.排气装置 8.6 表面改性 化学气相沉积技术的分类 按化学反应的激活方式，可分为: 1) 热化学气相沉积技术（TCVD） 2) 等离子体化学气相沉积技术(PACVD) 3) 激光诱导化学气相沉积技术(LCVD) 8.6 表面改性 1 混气室 2转子流量计 3步进电机控制仪 4真空压力表 5不锈钢管喷杆6喷头 7基板 8石墨基座9 石英管反应室 10机械泵 11WZK温控仪 12电阻丝加热源 13保温层陶瓷管 14密封铜套 热化学气相沉积技术(TCVD)??? 电阻丝加热，石英管反应室 8.6 表面改性  热化学气相沉积技术(TCVD)??? 电阻丝加热，石英钟罩 热化学气相沉积技术的特点： 沉积温度高:800-1200C 8.6 表面改性  激光诱导化学气相沉积(LCVD)??? 利用激光激活反应气体分子使之离解或电离，生成活泼的激发分子、离子、原子或活性原子团等，并在基体表面上沉积镀膜。 特点：沉积温度低。 8.6 表面改性  微波等离子CVD 8.6 表面改性  等离子体增强化学气相沉积(PCVD) ???射频电源通常采用电容耦合或电感耦合方式，其中又可分为电极式和无电极式结构，电极式一般采用平板式或热管式结构 8.7 金属雾化喷射沉积 金属雾化喷射沉积是将金属熔化成液体金属后，雾化为熔滴颗粒，随即直接沉积在具有一定形状的收集器上，从而获得大块整体致密度达到理论密度99%的金属实体。又称喷射成型。主要包括金属熔化、雾化、沉积三个步骤。 8.7 金属雾化喷射沉积 8.7.1 喷射成型的基本原理 液态金属雾化和直接沉积技术的核心，是雾化熔滴的沉积和凝固结晶。 （1）液态金属气体雾化的熔滴尺寸随合金性质、喷嘴几何尺寸和雾化参数而变，一般在10-300μm之间，多数在75-150 μm之间。 熔滴的冷速取决于金属颗粒大小。直径5μm的颗粒，冷速T≈106K·s-1，直径为300μm的大颗粒，冷速T≈103K·s-1。造成雾化后的颗粒到达沉积表面的状态可能不同，小颗粒可能呈固态，而大颗粒则可能保持液态。 8.7 金属雾化喷射沉积 8.7.1 喷射成型的基本原理 （2） 雾化沉积后凝固成大尺寸整块致密件的过程，是在沉积表面形成一层极薄而又有适当厚度的部分液态金属层，该液态金属层的凝固推进形成大块致密件。若沉积前熔滴已经凝固，则得到雾化粉末而不能形成致密件。若沉积熔滴全是液态大颗粒，则液态金属层很厚，类似于铸造。 8.7 金属雾化喷射沉积 8.7.2 喷射沉积工艺流程 喷射沉积可以生产扁平产品（如薄板、带）、盘件、空心管坯、涂层板等，还可以生产新型的多层材料和复合材料。 8.7 金属雾化喷射沉积 8.7.2 喷射沉积工艺流程 图为采用喷射沉积成形技术生产空心圆管坯。其原理为用惰性气体将钢水雾化，利用液滴的原有动能和热焓使熔融颗粒在旋转的圆形收集器上凝固成坯。通过控制喷射液滴的流量、圆形收集器的旋转和前进速度以及更换收集器，可直接生产不同外径和壁厚的空心圆管坯。 8.7 金属雾化喷射沉积 8.7.2 喷射沉积工艺流程 喷射沉积生产扁平产品（如薄板、带） ，从中间罐流出钢水由喷嘴粒化喷出，在基板被激冷、凝固而形成沉积层。采用喷射成形的半成品形状取决于基板（即接受器）的形状和运动方式。 8.7