多层印制板层压工艺技术及品质控制(三)
? 3.2.2 黑膜氧化制程溶液分析控制??? 内层单片之黑膜氧化处理,各主要化学药品之分析控制参见表11。
表 11 黑膜氧化制程溶液分析控制
制程
缸号
分析内容及要求
?日??? 期
项 目
单 位
要 求
Mon
Tue
Wed
Thu
Fri
Sat
内层单片黑膜氧化
11#除油
Cl
?g/l
90~110
95
100
97
?14#微蚀
G5B
%
2.0~3.5
3.2
3.0
2.7
?H2SO4
%
6.0~10
8.2
8.0
7.5
Cu2+
?g/l
10~60
40
42
47
?10#预浸?
271
g/l?
30~40?
38
37
35
9#黑膜?氧化
271
g/l
?40~44
43
42
42.5
43
41
41.5
272
g/l
115~125
124
123
122
123
120
122
6#后浸
PH
-
?3.8~4.4?
4.0
4.0
4.1
?Free Chelator
?M
0.12~0.16
0.15
0.14
0.14
?????????????? 3.2.3 黑化后板之铜箔剥离强度测试??? 用剥离强度专用测试仪进行,参见下表12。
表12 黑膜氧化剥离强度测试记
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