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电子光学系统---照明系统 1. 电子枪 电子枪是电镜的电子源。其作用是发射并加速电子，并会聚成交叉点。 目前电子显微镜使用的电子源有两类： ① 热电子源——加热时产生电子，W丝，LaB6 ② 场发射源——在强电场作用下产生电子，场发射电镜（FE ） 场发射电子枪及原理示意图 热发射的电子枪其主要缺点是枪体的发射表面比较大并且发射电流难以控制。近来越来越被广泛使用的场发射型电子枪则没有这一问题。如图所示，场发射枪的电子发射是通过外加电场将电子从枪尖拉出来实现的。由于越尖锐处枪体的电子脱出能力越大，因此只有枪尖部位才能发射电子。这样就在很大程度上缩小了发射表面。通过调节外加电压可控制发射电流和发射表面。 电子光学系统---照明系统 2. 聚光镜 聚光镜的作用是会聚电子枪发射出的电子束，调节照明强度、孔径角和束斑大小。一般采用双聚光镜系统。 双聚光镜: 第I聚光镜用短焦距强磁透镜，将电子枪形成的交叉斑缩小几十至上百倍。第II聚光镜将束斑按1:2投射到试样平面上，使聚光镜与试样之间有较大的空间，以便放置试样台，测角台及其他附件。 电子光学系统---成像系统 由物镜、物镜光阑、选区光阑、中间镜（1、2）和投影镜组成 1. 物 镜 ①? 用来获得第一幅高分辨率电子显微图像或电子衍射花样的透镜。电镜的分辨率主要取决于物镜，必须尽可能降低像差。 ②?物镜通常为强励磁、短焦透镜（f = 1-3mm）,放大倍数100—300倍，目前，高质量的物镜其分辨率可达0.1nm。 ③? 物镜的分辨率主要决定于极靴的形状和加工精度，极靴间距越小，分辨率就越高。 ④ 为进一步减小物镜球差，在物镜后焦面上安放物镜光阑。 电子光学系统---成像系统 2. 物镜光阑 装在物镜背焦面，直径20—120um，无磁金属制成（Pt、Mo等） 作用： ①? 提高像衬度 ② 减小孔径角，从而减小像差 ③ 进行暗场成像 3. 选区光阑 装在物镜像平面上，直径20-400um 作用：对样品进行微区衍射分析。 电子光学系统---成像系统 4. 中间镜 中间镜是一个弱励磁、长焦距、变倍率透镜，放大倍数可调节0—20倍 作用： ①? 控制电镜总放大倍数 ② ?成像/衍射模式选择 工作原理见右图： 电子光学系统---成像系统 5. 投影镜 短焦、强磁透镜，进一步放大中间镜的像。投影镜内孔径较小，使电子束进入投影镜孔径角很小。 小孔径角有两个特点： ⑴景深大，改变中间镜放大倍数，使总倍数变化大，也不影响图象清晰度 ⑵焦深长，放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。 注意：目前，一般电镜装有附加投影镜，用以自动校正磁转角。 电子光学系统---观察记录系统 观察和记录系统包括荧光屏和照相机构。 荧光屏涂有在暗室操作条件下，人眼较敏感、发绿光的荧光物质，有利于高放大倍数、低亮度图像的聚集和观察。 照相机构是一个装在荧光屏下面，可以自动换片的照相暗盒。胶片是一种对电子束曝光敏感、颗粒度很小的溴化物乳胶底片，为红色盲片，曝光时间很短，一般只需几秒钟。 ??? 新型电镜均采用电磁快门，与荧光屏联动。有的装有自动曝光装置。 ??? 现代电镜已开始装有电子数码照相装置，即CCD相机。 真空系统 镜筒内部需处于高真空(10-4～10-7托)的原因： ●避免电子与气体分子相碰撞而散射，提高电子的平均自由程(1米)。 ●避免电子枪的高压放电，并可延长灯丝寿命(免氧化)。 ●避免试样被污染。 供电控制系统 ●电子枪的高压电源。为减小色差，要求加速电压有很高的稳定度，如要达到0.2～0.3nm的分辨本领，压的稳定度必须优于2×10-6/分。 ● 磁透镜激磁电流的电源。磁透镜激磁电流的波动使透镜焦距发生变化，象变得模糊。分辨本领为0.3nm的电镜要求物镜电流的稳定度为1×10-6/分，中间镜和投影镜电流的稳定度为5×10-6/分。 ● 各种操作、调整设备的电器。包括电对中系统的电流、消象散器的电源及自动真空伐门、自动照相及其他自动控制系统的电路等。 ● 真空系统电源。 ● 保护用电器等。 ? 透射电镜---技术指标 包括 ●分辨本领 ●放大率 ●加速电压 ●自动化程度及所具备的功能等。 分辨本领(亦称分辨率) 表征电镜观察物质微观细节的能力，它是标志电镜水平的首要指标。 放大率指电子图像相对于试样的线性放大倍数。 线分辨率 定义：指电子图像中能分辨出的最小晶面间距，也称晶格分辨率。 如金(200)晶面的间距是0.204 nm，(220)晶面的间距是0.14