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激光与光电子学进展
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490322022012 狆 犵 ○2012
碳化硅表面硅改性层的特性研究
张 峰 范 镝 高劲松
(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 光学系统先进制造技术重点实验室,吉林 长春 130033)
摘要 为了获得具有高质量光学表面的非球面碳化硅反射镜,需对碳化硅反射镜表面进行改性。介绍了离子束辅
助沉积硅的碳化硅表面改性技术。对改性样片表面硅改性层的机械性能、光学加工性、表面粗糙度及反射率等特
性进行研究。实验结果表明,碳化硅表面的硅改性层具有优良的机械性能和良好的光学加工性。光学抛光后,碳
化硅表面硅改性层的表面粗糙度为 [均方根( )值],在可见光波段反射率最高可达 (镀银反射
0.85nm RMS 98.5%
膜)。采用数控加工方法对口径为Ф600mm的表面改性离轴非球面碳化硅反射镜进行加工,最终反射镜面形精度
的 值达到 ( ),满足高精度空间非球面反射镜的技术指标要求。
RMS 0.018 =0.6328 m
λλ μ
关键词 光学表面;碳化硅;表面改性;离子束辅助沉积;表面粗糙度;表面反射率
中图分类号 文献标识码 : /
O436 A 犱狅犻10.3788犔犗犘49.032202
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