第8章 抛光工艺的概述.pptx

第10章 抛光工艺 主讲: 主要内容 10.1 　抛光的机理 10.2　光圈 10.3　古典法抛光工艺 10.4　高速抛光工艺 10.5　平面抛光工艺 10.6 高精度球面零件的抛光工艺 10.7 高精度平面零件的抛光工艺 2 教学要求 １、了解抛光的机理，掌握抛光的目的及方法 ２、掌握光圈的识别与度量 ３、掌握两种方法的加工原理、工艺过程及问题的分析处理; ４、了解几种高速抛光的设备及结构参数;高精度零件抛光的工艺特点。 ５、了解加工设备及工装夹具; 3 10.1 抛光机理 10.1.1 抛光 是精磨以后的一道主要工序。 一、抛光的目的 　1、去除精磨的破坏层，达到规定的表面疵病（Ｂ）； 　2、精修面形，达到规定图纸要求的面形精度（Ｎ、△Ｎ）； 　3、用于控制高精度尺寸公差（平行差、角度误差等） 二、抛光原理 　抛光剂加在抛光模与零件表面之间（也有加在塑料膜内），借助二者相对运动，使零件逐渐抛光成具有一定的面形精度和质量的光学表面。 4 三、抛光的本质（1） 1、纯机械学说 抛光过程看作研磨过程的继续，尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用是基本的，其依据： 抛光表面有起伏现象; 一定条件下磨料也能作抛光剂; 玻璃重量有明显减轻; 抛光剂颗粒直径在一定范围内，效率与颗粒大小成直线关系; 一定条件下，抛光效率与速度、压力成直线或近似直线关系 5 三、抛光的本质（2） 2、化学学说 抛光过程是玻璃表面、抛光剂、抛光模和水作用下，发生错综复杂的化学过程。其依据　Ｐ135 3、流变学说 抛光过程是由于摩擦热引起表面热塑（熔）性流动和化学作用引起分子流动，从而形成分子重新分布的过程。 其依据：Ｐ135 6 三、抛光的本质(4) 4、机械、物理、化学学说 抛光过程是一个具有机械的化学的和物理化学作用的综合过程，但机械作用是基本的，化学作用是重要的，流变现象是存在的。 7 10.1.2　各工艺因素对抛光的影响 一、抛光剂 1、种类： 白粉：硬度高，粒度大，效率高，但光洁度差。 红粉： 2、供给量： 适中量。过小粉粒少，降低效率；过大水量过多，减小化学作用，降低效率。 3、浓度： 液固比（白1：5；红：1：4～8）。 4、ＰＨ值：5.5～6.5下 添加剂: 8 10.1.2　各工艺因素对抛光的影响(2) 二、抛光压力和速度: 在一定限度内与抛光速率成线性关系。 三、温度、湿度 ;60～70％ 四、抛光模层材料 不同的抛光模层材料其抛光效率是不同的 . 五、精磨质量 足够精确的表面几何形状和适当的N低凹值;表面结构应凸凹层深些，裂纹层小些最好。 9 § 10.2　光 圈 光学表面的面形偏差：被检光学表面相对于参考光学表面的偏离程度。 抛光质量：面形偏差和表面疵病B 检验抛光表面的面形偏差的方法： 干涉图样法： 接触法：样板检验法 非接触法：干涉仪法 阴影法： 样板检验是光学零件制造中使用最广泛、最简便的一种精密检测方法。 10 10.2.1 样板检验原理 在光学加工中，光学零件的面形偏差是通过样板的工作（参考）表面与被检表面相接触时，当两者的面形不一致就形成一楔形空气层，当波长为λ的光射到空气层上便形成等厚干涉条纹。此干涉条纹称为光圈。如图示 由于误差是在圆形检验范 围内，通过观察到的光圈 数目、形状、变化和颜色 来确定且用光圈表示，故 样板检验也称“光圈检验”。 11 10.2.1 样板检验原理（2） 一、光圈数N与空气层厚度△h的关系： 二、光圈数N与曲率半径偏差△R的关系： 三、光圈半径rk与波长λ的关系： 对于同一级干涉环，波长λ越长，干涉条纹离接触点愈远。 12 8.2.2 高低光圈的判别 根据两表面的接触情况可分为: 高光圈：零件表面与样板中心接触，属正偏差 低光圈：零件表面与样板边缘接触，属负偏差 一、微压法： 1、周边加压法： 条纹从边缘向中心移动为低Ｎ，反之亦反。 2、侧压法： 条纹弯曲的凹向背向着力点为低光圈； 条纹弯曲的凹向朝向加压点为高光圈。 13 8.2.2 高低光圈的判别（2） 二、色序法： 白光照射下，从中心到边缘当色序“蓝-红-黄”时为低光圈，当色序为“黄-红-蓝”时为高光圈。 三、移眼观察法： 眼由上向下再向外移动，光圈向里收缩为低光圈; 反之则为高光圈。 14 8.2.2 高低光圈的判别(3) 四、局部偏差：　　和 像散光圈：两个相互垂直方向上光圈数Ｎ不等的最大代数差 中心低：中心部位凹陷 中心高：中心部位凸起 塌边：边缘部位塌陷 翘边：边缘部位翘起 15 高低光圈识别图 16 8.2.3 光圈的度量 一、半径偏差Ｎ： 如图所示 图a为N1: 　　 图b为N1： Ｎ＝0：呈灰白色 利用颜色-间隔对照Ｂ