课件：三节冷冻蚀刻样品制备技术.ppt

然后用运输提篮将安装好的割断装置放入液氮中冷冻至液氮停止沸腾，立刻用运载篮将割断装置移到HUS——5GB的真空罩内的塑料底座上，将支架块拉线挂在挡板的手柄上，接上温度控制器插头，盖好真空玻璃罩开始抽真空，同时向真空喷镀仪的冷阱内加满液氮。 7、样品的断裂和蚀刻：当真空度达到1×10－5讬以上，样品的温度升至－1000～－1100C之间时是样品断裂的最佳时机，这是猛拉挡板手柄，刀座顺势沿斜面滑下并将样品割断。在样品被割断后升高温度至－1000～－900C时，在此温度下蚀刻15～19秒，蚀刻的速度为2nm／秒，蚀刻的深度约为300～400 nm。 8、在样品表面喷镀碳和铂制作样品断面的复型：当蚀刻的时间到，先对铂电极通电使之加热，以与样品成450角向样品表面喷镀铂。当加上电流后开始碳棒尖端变红，随电流的增大在2～3秒内铂珠熔化、气化，当刚出现碳火花时即可停止通电。然后再使碳电极通电，以900角向样品表面喷镀碳来加固复型膜。喷碳采用间断喷镀法，每次喷碳时间约1秒，没隔3～4秒喷一次，共喷4～5次。 样品被割断、蚀刻和喷镀过程示意图 9、复型膜的分离与清洗：喷镀结束后，把真空罩内恢复大气压，取出样品杯放入盛有蒸馏水的白色坩埚内，用针尖轻轻将杯中的样品挑于水中。然