典型RP：第2章 光固化快速成型(SLA)工艺.pptVIP

1 ．叙述光固化快速成型的原理 2 ．光固化快速成型的特点有哪些？ 3．光固化材料的优点有哪些？光固化树脂主要分为几大类？ 5．光固化成型工艺过程主要分为几个阶段，其后处理工艺过程包括哪些基本步骤？ 6．光固化成型的支撑结构的类型有哪些？支撑的作用是什么？ 7．光固化原型工艺中的收缩变形来自于哪几个方面？ 8．影响光固化原型精度的因素有哪些？为提高原型精度，各因素是如何控制的？ 思考题 4．列举供应光固化成型设备国内外主要商家及其基本型号 9．影响光固化原型制作效率的因素有哪些？如何提高原型的制作效率？ 第2章 光固化快速成型工艺 （2）层数较小的制作方向 零件的层数对成型时间的影响很大，对于同一个成形零件，不同的制作方向的条件下，成型时间差别较大。快速成型方法制作零件时，在保证质量的前提下，应尽量减少制作层数。 对零件制作方向进行优化选择可以降低成型时间，对比不同制造方向时的成型时间，可以看出，选择制作层数较少的制作方向，零件制作时间不同程度地减少，甚至减少了近70%的制作时间。 2-4 光固化成型的精度及效率 3. 扫描参数对成型效率的影响 每一层的扫描时间可以降低零件的总成型时间，提高成型效率。每一层的扫描时间与扫描速度、扫描间距、扫描方式及分层厚度有关，通常扫描方式和分层厚度是根据工艺要求确定的，每层的扫描时间取决于扫描速度及扫描间距的大小，其中扫描速度决定了单位长度的固化时间，而扫描间距的大小决定单位面积上扫描路径的长短。 图2-38 树脂固化截面理论形状 图2-39 相邻固化线的重合 2-4 光固化成型的精度及效率 扫描间距的提高缩短了紫外光在固化平面往复运动时的扫描距离，表2-8为不同的扫描间距下零件的制作时间，当扫描间距提高到0.2mm时，这时零件的制作时间只有间距为0.1mm时的52%～62%，成型时间减少接近一半，而当扫描间距提高到0.3mm时，制作时间只有间距0.1mm时的40%左右，即在同样的制作条件下，适当提高固化成型中的扫描间距，可以有效减少零件制作时间，提高制作效率。 2-4 光固化成型的精度及效率 1 光固化快速成型工艺的基本原理和特点 2 光固化快速成型材料及设备 3 光固化成型的工艺过程 4 光固化成型的精度及效率 5 微光固化快速成型制造技术 3 5 第2章 光固化快速成型工艺 在微电子和生物工程等领域，制件一般要求具有微米级或亚微米级的细微结构，而传统的SLA工艺技术无法满足这一领域的需求。尤其在近年来，MEMS（Micro Electro-Mechanical Systems）和微电子领域的快速发展，使得微机械结构的制造成为具有极大研究价值和经济价值的热点。微光固化快速成型μ-SL（Micro Stereolithography）便是在传统的SLA技术方法基础上，面向微机械结构制造需求而提出的一种新型的快速成型技术。目前提出并实现的μ-SL技术主要包括基于单光子吸收效应的μ-SL技术和基于双光子吸收效应的μ-SL技术，可将传统的SLA技术成型精度提高到亚微米级，开拓了快速成型技术在微机械制造方面的应用。 2-5 微光固化快速成型制造技术 1. 基于单光子吸收效应的μ-SL技术 光固化过程中，树脂分子对光能的吸收是以单个光子为单位的，因此被称为“单光子吸收光聚合反应”，简称为SPA（Single-Photon Absorbed Photopolymerization）。 以单光子吸收（SPA）效应为反应机理的SLA技术，其成型精度取决于光斑大小、固化时间、固化层厚度等工艺参数，目前可以达到±0.1mm的精度。如果优化光路系统及机械传动系统，可以将SLA的精度提高到微米级，使光固化成型技术实现微米级的复杂三维结构的构建，即能够实现μ-SL技术。 目前，以SPA效应为反应机理的μ-SL技术有两种主要的成型模式：扫描式μ-SL（Scanning Micro Stereolithography）和遮光板投影式μ-SL（Mask Projection Micro Stereolithography）。 2-5 微光固化快速成型制造技术 （1）扫描式μ-SL 扫描式μ-SL和传统的SLA技术原理相同，但采用的控制系统和传动控制更为精确。如图2-40所示，在扫描式μ-SL中，通常采用光源固定，而工作台相对运动的方式来进行扫描。这样就可以避免由于光源移动引起的光斑尺寸的变化，从而避免了因为固化区尺寸的不恒定因素而引起的尺寸精度的下降。 扫描式μ-SL采用单层逐步扫描的成型方式，效率较低。为了克服这一技术缺陷，提出了遮光板投影式μ-SL（Mask Projection Micro Stere