三光束激光干涉光刻的实现方法-强激光与粒子束.PDF

第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ， ２３ １２ Ｖｏｌ．２３ Ｎｏ．１２ 　 　 年 月 ， ２０１１ １２ ＨＩＧＨ ＰＯＷＥＲＬＡＳＥＲＡＮＤＰＡＲＴＩＣＬＥＢＥＡＭＳ Ｄｅｃ． ２０１１ 　 　 文章编号： （ ） １００１４３２２２０１１１２３２５００５ 　 三光束激光干涉光刻的实现方法 ， ， １２ １３ １ 刘国强 ， 张 锦 ， 周崇喜 　 　 　 （ 中国科学院 光电技术研究所，微细加工光学技术国家重点实验室，成都 ； １． ６１０２０９ 中国科学院 研究生院，北京 ； 西安工业大学 光电学院，西安 ） ２． １０００３９ ３． ７１００３２ 　 　 摘 要： 分析了多光束空间分布产生的误差对图形的影响，通过计算优化得到三光束产生的干涉图形在 　　 　 　 整个面内有着更好的图形稳定性。利用氦镉激光光源通过特定的光学系统形成空间分布近似旋转对称的三束 光，对光致抗蚀剂进行干涉曝光，制作出了周期 ６００ｎｍ、高度３５０ｎｍ的蜂窝状点阵，测量结果表明该系统具有 很好的图形重复性和稳定性，同时降低了对于光学光路的精密性要求。 关键词： 干涉光刻； 三光束； 图形稳定性； 周期性点阵 　　 　 　 　 　 中图分类号： 文献标志码： ： ／ Ｏ４３６．１ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ＨＰＬＰ３２５０ 　　 　 　　　　 　 　　 　　干涉光刻技术作为一种近年来的新兴光刻技术，在大面积周期性微纳结构的制作中起到了独特的推动作 用，而且由于其廉价的技术成本和能够通过可控操作来改变表面结构，在完全周期性图形结构的生产中有广阔 ［ ］ １５ 的发展前景，在光电子产业、太阳能产业及表面微观处理上也有着很好的发展空间 。目前干涉光刻主要采 ［］ ［］ ６ ３ 用的是双光束单次曝光产生光栅结构、双光束两次曝光 或四光束单次曝光 产生出矩形排列结构的点阵，虽 ［］