机械设计基础第二版课件教学课件 ppt 作者 米广杰 主编 耿国卿 吕莹 李琦 副主编第2章机械系统的运动简图设计.ppt

第2章 平面机构的组成及结构分析 本章主要介绍了机构的组成及特点，分析机构具有确定运动的的条件，学会平面机构运动简图的绘制及自由度的计算， 明确机构分析的目的。 第2章 平面机构的组成及结构分析 §2.1 平面机构的组成 §2.2 平面机构的运动简图 §2.3 平面机构的自由度 所有构件的运动平面都相互平行的机构称为平面机构，否则称为空间机构。常用机构大多数为平面机构，本章仅讨论平面机构的情况 。 2.1 平面机构的组成 2.1.1 构件的分类 根据构件在传递运动中的作用，机构中的构件可分为三类： ⒈固定件或机架——用来支撑活动构件固定不动的构件。研究机构中活动构件的运动时，常以固定件作为参考坐标系。 ⒉原动件——按给定运动规律独立运动的构件。它是机构中输入运动的构件，故又称为主动件。 ⒊从动件——机构中随着原动件的运动而运动的其余活动构件。 在一般的机构中，必有一个构件被相对地看作固定件，在活动构件中，必须有一个或几个原动件，其余的是从动件。当原动件按预定的运动规律运动时，机构中各从动件即有确定的相对运动。 2.2.2 构件的表示方法 构件的相对运动是由运动副决定的，所以在表示机构运动简图中的构件时，把构件上的运动副按照其相对位置先用符号表示出来，再用简单的线条连接起来。表示方法如图2-10所示。 2.3 平面机构的自由度及具有确定运动的条件 2.3.1 平面机构自由度的计算 如果一个平面机构中包含有N个构件，其中2个构件固定为机架，则有n=N-2个活动构件，若有PL个低副和PH个高副。则这些活动构件在未用运动副联接之前，其自由度总数为3n。当用PL 个低副和PH 个高副联接成机构之后，全部运动副所引入的约束为2PL+ PH 。因此活动构件的自由度总数减去运动副引入的约束总数，就是该机构的自由度数，用F表示，有 F=3n-2PL- PH （2-2） 由公式可知，机构自由度F取决于活动构件的数目以及运动副的性质和数目。 2.3 平面机构的自由度及具有确定运动的条件 例2-3 计算图2-12b所示的颚式破碎机的自由度。 解： 除机架外，颚式破碎机有三个活动构件，n=3；四个转动副共4个低副，PL=4，PH=0。 由式(2-2)得 F=3n-2PL-PH =3?3-2?4-2?0=2 该机构的自由度为2。 2.3 平面机构的自由度及具有确定运动的条件 例2-4 试计算图2-19所示的大筛机构的自由度，并判断它是否有确定的运动。 解 机构中的滚子有一个局部自由度。在E和E′组成两个导路平行的移动副，其中之一为虚约束。C处是复合铰链。将滚子与顶杆焊成一体，去掉移动副E′，并在C点去掉2个回转副。由此得，n=7，PL=9，PH=2。其自由度为： F=3n-2PL-PH=3?7-2?9-2=2 因为机构有两个原动件 ，其自由度等于2， 所以具有确定的运动。 机械设计基础 * 2.1 平面机构的组成 2.1.2 运动副 自由度：把构件可能出现的独立运动的数目称为自由度。 2.1 平面机构的组成 2.1.2 运动副 运动副：机构中两构件之间直接接触并能作相对运动的联接，称为运动副。 图2-2 运动副 自由度和运动副约束 两构件构成运动副后，某些独立的相对运动便受到限制，这种限制称为约束。运动副引入约束，相对运动自由度随之减少。 运动副引入的约束数等于两构件相对自由度减少的数目。 运动副元素不外乎为 点、线、面。 按照接触特性，通常把运动副分为低副和高副两类。 1.低副 两构件通过面接触构成的运动副称为低副。 ⑴移动副：两构件间的相对运动为直线运动的，称为移动副 。 图2-3移动副 具有2个约束， 保留了1个自由度 2.1 平面机构的组成 图2-4 转动副 ⑵转动副： 两构件间的相对运动为转动的，称为转动副或称为铰链副 a)固定铰链 具有2个约束， 保留了1个自由度 2.1 平面机构的组成 b)活动铰链转动副 具有2个约束， 保留了1个自由度 由上述可知，在平面机构中，每个低副引入两个约束，机构即失去两个自由度。 2.1 平面机构的组成 2.高副两构件通过点或线接触构成的运动副称为高副。 2.1 平面机构的组成 图2-5 凸轮高副 保留2个自由度， 带进1个约束 2.1 平面机构的组成 图2-6 齿轮高副 保留2个自由度， 带进1个约束 由上述可知，在平面机构中，每个高副引入一个约束，机构即失去一个自由度。 低副两构件之间为面接触，只能作相对滑动，容易制造和维修，其承受载荷时接触处单位面积上的压力小，承载能力大，耐磨