聚合物光波导的等离子体刻蚀工艺研究.docVIP

光 子 学 报ＡＣＴＡ ＰＨＯＴＯＮＩ 光 子 学 报 ＡＣＴＡ ＰＨＯＴＯＮＩＣＡＳＩＮＩＣＡ 第 ４０ 卷 增 刊 ２０１１ 年 １２ 月 Ｖｏｌ．４０Ｓｕｐ．１ Ｄｅｃｅｍｂｅｒ２０１１ 文 章 编 号 ：１００４－４２１３（２０１１）ｓ１－０００７－４ 聚合物光波导的等离子体刻蚀工艺研究 孟 杰 ，曹 子 谏 ，靳 琳 ，孙 小 强 ，张 大 明 （吉林大学 电子科学与工程学 院 集成光电子学国家重点联合实验室 ，长 春 １３００１２） 摘 要 ：等离子体 干法刻蚀是 聚合物光波导制备过程中一项关键工艺 ．利 用 感 应 耦合等离子体各向 异性 刻蚀工艺 制备了聚合物脊形结构波导 ，研究了不同工艺参量 （源 功 率 、偏 置 功 率 、刻 蚀 腔 室 压 强 以 及 气 体 组 分 ）对 脊 形 波 导 刻 蚀 速 率 的 影 响 ．利 用扫描电子显 微 镜 对 刻 蚀 后 波 导 高 度 、侧 壁 垂 直 度 及 表 面 粗 糙 度 进 行 分 析 ，得到 了高刻蚀速率和 低 粗 糙 度 的 优 化 工 艺 条 件 ．实 验 结 果 表 明 ：在 其 他 工 艺 条 件 相 同 的 情 况 下 ，刻蚀速 率随着感应耦合等离子体源功率及偏 置 功 率 的增 大而增加 ，随 刻 蚀 腔 室 压 强 的 增 大 而 减 小 ，随 着 Ａｒ在 Ｏ２／Ａｒ混合