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超微细FPC线路不良改善报告
工程工艺部
2015.11.23
1/21
大綱
1. 背景說明
2. 線路改善總表
3. 六階段改善施策
階段1. 乾膜壓合工法變更(乾壓濕壓)
階段2. 蝕刻line停機管理建立
階段3. 蝕刻 Line 滾輪數低減測試
階段4. 製品接料段不良改善
階段5. 蝕刻機滾輪清潔工法強化
階段6. 露光機異物源低減
4. 線路改善一覽表
5. 效果確認
2/21
試作流動時超微细品L/S:35/35um總不良率推移 ,平均不良率達18.9%, 且線路為首要不良
1. 背景說明
TOP 3不良 :
品目: WOI268
NO
項目
不良率
佔比
1
線路不良
9.1%
AOI 檢出 6.3%
48%
電測檢出2.8%
2
折痕不良
4.3%
23%
3
打痕不良
1.5%
8.5%
針對線路不良進行工程改善
不良率
累積佔比
3/21
2.線路改善總表
結論 : 經六階段施策, AOI不良率已降至0.5%以下
4/21
項目
原始
施策 1
施策 2
施策 3
施策 4
施策 5
施策 6
內容
週別
W3~W6
W7,W9
W11~W28
W29,W30
W31~W36
W37~
A2
7.6%
1.84%
1.2%
0.95%
0.65%
0.57%
0.46%
A3
4.9%
1.13%
0.7%
0.6%
0.6%
0.56%
0.44%
平均
6.3%
1.5%
1.0%
0.78%
0.63%
0.57%
0.45%
切換濕壓
乾壓
蝕刻 Line停機管理建立
顯像/蝕刻滾輪數
低減
製品接料段不良改善
蝕刻機
滾輪清潔
工法強化
露光機異物源低減
不良類型
不良寫真
不良因素推論
缺口
打折痕
密著性不佳
斷線
異物
密著性不佳
階段1. 乾膜壓合工法變更(乾壓濕壓)
小結:1. AOI 不良分析 , 主要斷線/缺口佔比高 , 75% ,列為改善第一目標.
2. 乾壓條件密著性不佳 進行乾/濕壓密著性差異確認
b.不良分類佔比
a.不良類型分類佔比
共通課題 :
密著性不佳
不良率
累積佔比
首要改善目標
1.現況不良分析:
5/21
2.乾壓、濕壓顯像畢線路密著性確認:
乾壓(原始)
濕壓
最適段數積光量
5段(26±3 mj/cm2)
5段 (20±3 mj/cm2)
SEM寫真
角度:45。
500X
1000X
1000X
結果
密著性差
密著性佳
乾膜
乾膜
銅材
乾膜
濕壓條件密著性佳, 故進行濕壓作業不良率改善確認
有間隙
銅
材
銅
材
有間隙
無間隙
無間隙
6/21
結果 : 變更濕壓可有效降低斷線缺口不良,線路不良率由6.3%降低為1.7%
因尚未達到目標1.0%以下, 故再進行第二階段不良分析改善
Avg : 6.3 %
Avg : 1.7%
3. 改濕壓條件效果確認
作業方式
乾壓
濕壓
差異
斷線
1.96%
0.23%
▼1.73%
缺口
2.85%
0.52%
▼2.33%
表面缺口
0.12%
0.12%
---
銅殘
0.33%
0.2%
▼0.11%
短路
1.03%
0.62%
▼0.41%
總計
6.29%
1.69%
▼4.58%
不良率
7/21
階段2.蝕刻line停機管理建立:
由AOI高不良LOT調查蝕刻作業日報表順序,發現銅殘短路高異常批
好發在停機再開後製作首Lot
不良異常原因調查 : 停機後滾輪結晶造成銅殘短路高不良
時間
清潔畢(0hr)
2 hr未稼動
4 hr未稼動
8 hr未稼動
24hr未稼動
寫真
<建立停機管理機制>
2hr內不製作, 接料空跑 PET 至下次投入製品。
2~8hr不製作, 製作前投入PET空跑1hr後才可投入製品
3. 超過8 hr ,需顯像~蝕刻前水洗, 實心滾輪清潔後製作
8/21
改善後
停機8 hr後製作
停機8 hr後製作
停機12 hr後製作
不良率
結果:對策後LOT短路銅殘不良率在1%內,並可排除高異常LOT
階段2.蝕刻line停機管理建立:
停機後復機首Lot易有高異常
停機後復機首Lot無高異常
9/21
階段3.蝕刻 Line 滾輪數低減測試
結果: 滾輪低減施策,短路+銅殘不良率下降0.31% ,
判定滾輪低減可有效降低異物沾黏造成的銅殘
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