原子层沉积氧化铝薄膜摩擦学性能研究-摩擦学学报.pdf

第卷第期 摩擦学学报 ３３ 　 ２ Ｖｏｌ３３　 Ｎｏ２ 年月 Ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ ， ２０１３ ３ Ｍａｒ ２０１３ 原子层沉积氧化铝薄膜摩擦学性能研究 １ ２ １ ２ １ ２ １ ２ １ ２ １ ２ ， ， ， ， ， ，  王　 莹，杨　 静，袁宁一，丁建宁，夏　 丽，谭成邦 （１．常州大学低维材料微纳器件与系统研究中心，江苏常州　 ２１３１６４； 常州大学太阳能电池材料与技术江苏省重点实验室，江苏常州 ） ２． 　 ２１３１６４ 摘要：不同温度条件下，采用原子层沉积（ ）技术在单晶硅基底表面制备了 薄膜利用原子力显微镜观 　 ＡＬＤ Ａｌ Ｏ ． ２ ３ 察了 薄膜的表面形貌和粗糙度，利用纳米压痕仪测定了薄膜的硬度，并通过 型往复摩擦磨损试验机 Ａｌ Ｏ ＵＭＴ－２ ２ ３ （球盘接触方式）考察了制备温度、载荷和对偶球对 薄膜的摩擦学性能的影响结果表明：不同温度条件下 － Ａｌ Ｏ ． ２ ３ 制备得到的Ａｌ Ｏ 薄膜的粗糙度不同；制备温度为１００ 和２００ °Ｃ 的Ａｌ Ｏ 薄膜的摩擦性能较优；在所用载荷范围 ２ ３ ２ ３ 内，摩擦系数存在最低值；与不同对偶球对摩时，由于对偶球硬度不同，Ａｌ Ｏ 薄膜呈现不同的摩擦磨损现象． ２ ３ 关键词：Ａｌ Ｏ 薄膜；原子层沉积；制备温度；对偶球；摩擦磨损 ２ ３ 中图分类号： 文献标志码： 文章编号： ＴＨ１１７．１ Ａ １００４－０５９５（２０１３）０２－０１７７－０７ Ｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌ Ｐｒｏｐｅ