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- 2019-09-12 发布于天津
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鍍液濃度,
成分和特性; 一、電鍍基本概念
二、二次/三次電流分布
三、鍍液組成介紹(Ni/Au);一、電鍍基本概念(續);一、電鍍基本概念(續);二、2、3 級電流分布;二、2、3 級電流分布;P;三、鍍液組成介紹(鎳);三、鍍液組成介紹(鎳);三、鍍液組成介紹(鎳);三、鍍液組成介紹(鎳);鍍鎳槽液的維護:
低電流假鍍 (Dummy plating)
低電流(2-5 ASF)下以曲折的不鏽鋼板析出金屬雜質。一般在生產前假鍍半個小時。
活性碳處理
平時處理以粒狀活性碳濾心過濾槽液中的有機雜質;定期則以粉狀活性碳混入槽液中,加強攪拌以吸收有機雜質,之後進行較長時間的沉澱以方便過濾。其實活性碳吸附有機質的速度相當快,最初的幾分鐘效果最佳且溫度影響不大,混合過久反而又會將吸附物釋出。一般作業程序為加溫至65?C,添加方式為每公升加5克活性碳粉,攪拌約2小時,經長時間沉澱後過濾。此外經長時間操作後,可先用強氧化劑(如雙氧水)將有機物氧化成更小的分子片斷,再利用活性碳吸收,如此的清除效果更佳。這方面作業為每公升槽液加入5 ml雙氧水,劇烈攪拌以求充分作用,最後維持2小時以上的高溫以清除雙氧水。
分析槽液
定期利用Hull cell分析並與正常槽液比較,藉以判斷槽液是否受到污染。;二、鍍液組成介紹(金);二、鍍液組成介紹(金);二、鍍液組成介紹(金);二、鍍液組成介紹(金);二、鍍液組成介紹(金);二、鍍液組成介紹(金);二、鍍液組成介紹(金);二、鍍液組成介紹(金); 鍍液組成繁多且依特性不同多有變化,再加上產品及技術日新月異,
於此僅能提供一般概念性訊息供大家參考
(另 提供化鎳/化金配方及組成資料),
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