2011级微电子工艺实习时间安排及注意事项.docVIP

PAGE PAGE 1 2011级微电子工艺实习时间安排及注意事项 本学期微电子工艺实习时间为:第五、六两周（3月24号开始）;地点:四号楼203房微电子工艺技术实验室。 进入实验室先换拖鞋，穿净化服，每位同学上课前领一次性口罩一个，不得无故迟到、旷课（旷课不给实验成绩），每组选派一位组长负责考勤。 实验前做好预习，写好预习报告；实验时认真记录，课程结束需提交每次的预习报告及一篇总的实验报告，作为本学期评分依据。 本实习内容及教师如下： 实验一：氧化，高纯水制备，压焊总测 （陈平） 实验二：光刻，原子沉积，光反射测膜厚 （廖荣） 实验三：磷扩散，真空镀膜，磁控溅射 （廖荣） 实验四： 硼扩散，划片，装架，烧结 （陈平） 5.各组具体安排如下：（分四组） 组长 组员 第一组 贺云晓 蔡佳焜 邓越生 何俊杰 黄建东 黄俊桥 黄宇 来东辉 第二组 林文浩 黎浩 李方卫 李智锋 卢志毅 骆俊宇 欧阳明 石博文 第三组 魏秉泽 夏宁 余霖 张嘉良 张建雄 张日军 张哲 周钧宇 第四组 范文杰 邝跃君 陈伟明 彭玄 李润冰 朱桂杰 李思民 黄欣怡 6．具体上课时间：①第一次全体同学上总课为第五