直流磁控溅射氮化铁薄膜生长的动力学标度.pdf

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24 4 Vol24 No. 4 2003 8 CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE Aug., 2003 : 1000-7032(2003) 04-0431-04 直流磁控溅射氮化铁薄膜生长的动力学标度 1 1 1 1 2 2 3 王 欣 , 高丽娟 , 于陕升 , 郑伟涛 , 徐 娓 , 郭 巍, 杨开宇 ( 1. ; 2. ; 3. , 130023) : , Ar/ N , N ( N 2 2 2 5%, 10%, 30%,50%) ( 160,30,20, 10,5min) ,Fe N X x ( XPS)N ; X ( XR ) N Fe N 2 2 x , N 5% FeN , 10% -Fe N , 30%50% FeN 2 0056 3 (AFM) X (GIXA) , N 2 ,, : N , 5% , 065, 053 2 002, Kolmogorov KPZ : ; ; : O4841 : A d + 1( d ) 1 引 言 , KPZ [ 5~ 7] ,, , 2+ 1, Kolmogorov [ 1] 066, 05 KPZ , : + / = 2, , , [ 1, 3] Eden KPZ [2,3] , , 1952 , [ 8] 2 ,Fe N( x

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