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- 2019-10-23 发布于天津
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药物杂质研究基本思路及控制方法;1. 国内外对药物杂质研究的相关技术要求
2. 杂质来源和控制
有机杂质
无机杂质
残留溶剂
;ICH(International Conferenceon Harmonizationof Technical Requirements for RegistrationofPharmaceuticalsfor Human Use)
美国药典(USP)
英国药典 (BP)
欧洲药典 (EP)
中国药典 (ChP)
;一、概述 ;有机杂质:
包括工艺中引入的杂质和降解产物等,由于这类杂质的化学结构一般与活性成分类似或具渊源关系,故通常又可称之为有关物质。
无机杂质:
是指在原料药及制剂生产或传递过程中产生的杂质,这些杂质通常是已知的,主要包括:反应试剂、配位体、催化剂、重金属、其它残留的金属、无机盐、助滤剂、活性炭等。
残留溶剂:
在合成、纯化、制剂过程中残留所使用的溶剂,这些溶剂通常是已知的。
;二、国内外对药物杂质研究的相关技术要求;报告限度;报告限度(Reporting Threshold):
超出此限度的杂质均应在检测报告中报告,并应报告具体的检测数据。
鉴定限度(Identification Threshold):
超出此限度的杂质均应进行定性分析,确定其化学结构。
质控限度(Qualification Threshold):
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