《内层蚀刻教材》-公开课件（设计）.pptVIP

课堂纪律 一、防止外来因素干扰，关掉传唤机，手机等传唤工具 二、急事离开可事先提出，不可尚自离座位，有固定的休息时间。 三、在导师未允许时，禁止互相谈论。 目录： 蚀刻简介 ---------- 3 蚀刻工艺流程及原理 ------ --- 4-5 蚀刻常见质问题及对策 -------- 6-9 环保 ------------------------------10 * IME 修改日期：03/30/2001 蚀 刻 简 介： 蚀刻由显影、蚀刻、褪膜三大部份组成。显影为将未曝光部份溶解，曝光部份保留。显影的决定速度可按露铜点50-70%决定。蚀 刻是将裸露的铜面蚀掉，从而得到我们所需的图形。褪膜是利用强碱将干膜溶解剥离原理，将干膜冲洗干净。NaOH浓度控制1--4%。浓度过高会造成板面氧化，太低又冲洗不干净。 蚀刻工艺流程： 显影 蚀刻 褪膜 显影目的是将末曝光之干膜溶解。曝光部份保留下来，其原理是经曝光后的 干膜遇弱碱不能溶解，而末曝光部份能溶解掉，蚀刻目的是将露铜面的铜溶 解掉，而有干膜部分保留下来。其工作原理为：Cu+CuCl2 2CuCl