行业标准《钒蒸发料》编制说明.docVIP

PAGE 5 钒蒸发料 编制说明 （讨论稿） 2015年3月24日 钒蒸发料编制说明 1、工作简况 1.1任务来源 近年来，钒蒸发料作为一种重要的半导体电子器件制造用材料等方面得到广泛的应用。随着我国集成电路产业的快速发展，此种蒸发镀膜材料的消耗量逐年增加，市场广阔。目前我国已有多家企业可提供该类产品，但由于未对钒蒸发料制定相应的标准，也未检索到相应的国际标准或国外先进标准，市场上的钒蒸发料质量、规格多样，验收规则也千差万别，因此需要建立我国钒，尤其是钒蒸发料行业标准，可促进现有产品质量的提高，确保产品生产、检验和验收的规范及统一。目前美国材料协会标准、日本电子协会标准、欧盟标准中均没有钒蒸发料的相关标准，因此钒蒸发料产品国家标准的制定对该产品技术水平的不断提高将起到一定的推动作用。本标准是根据多年产品的生产经验和使用要求，积累一定数据的基础上制定的，充分考虑了标准的先进性、适用性和可操作性。 根据工业和信息化部工信厅科 [2014]628号文下达该标准的制定任务，项目起至日期为2015年1月～2015年12月，行业标准计划序列号为2014-1486T-YS，技术归口单位为全国有色金属标准化技术委员会，起草单位为有研亿金新材料有限公司。 有研亿金新材料有限公司接到标准制定任务后，根据任务落实会的会议精神，组建钒蒸发料标准起草小组，主要进行如下工作： （1）确立《钒蒸发料》行业标准起草遵循的基本原则； （2）申报起草该报告的立项报告； （3）对供应商、客户纯度要求进行调研、收集资料； （4）查阅相关标准； （5）确定主要技术内容； （6）确定仲裁分析方法； 1.2 起草单位 有研亿金新材料有限公司，简称有研亿金，隶属于北京有色金属研究总院。有研亿金拥有30多年专业从事稀有和贵金属材料研究、开发和生产经验，获得并积累了一大批国家和部级科研成果，培养造就了大批科研、生产人才。有研亿金是国内率先开展集成电路用靶材研究开发的单位，在集成电路用超金属靶材制备加工领域具有国内领先的优势。多年来，有研亿金利用具有自主知识产权的高性能靶材制备技术，开发了独具特色的靶材产品，靶材产品涉及各种稀贵金属Ag、Au、Pt及其合金，各种材料Al、Cu、Ti及其合金，各种难熔金属等，形成了具有年产值近亿元的产业基地，如先进镀膜用半导体材料、光学材料、稀土材料、集成电路相关材料等，具备一大批对超金属材料制备加工技术具有较坚实理论基础和丰富实践经验的专家和技术人员。有研亿金历年承担国家军工配套项目和军工新产品试制项目近百项，获部级奖56项，国家专利38项，国家科技进步奖3项，国家发明奖9项，全国科学大会奖2项，国家科技进步奖特等奖子项奖1项。 1.3主要过程和内容 本标准主管部门为中国有色金属工业协会，起草单位为有研亿金新材料有限公司。 有研亿金新材料股份有限公司接到标准制定任务后，组织起草人员查阅和检索了国内外有关技术标准和资料，并征求了相关生产和使用企业的意见，作为建立本技术标准的技术依据，也考虑了国内生产、加工能力和分析水平等实际情况于2015年2月完成草案稿。 2 编制原则和依据 本标准起草单位自接受起草任务后，本标准编制组收集了生产国内外客户要求、国内厂家实际生产水平等信息，初步确定了《钒蒸发料》标准起草所遵循的基本原则和编制依据： 1）查阅相关标准和国内外客户的相关技术要求； 2）根据国内外钒蒸发料使用企业具体情况，力求做到标准的合理性与实用性； 3）广泛适用，操作可行的原则； 4）有利于创新发展与国际接轨的原则。 编制本标准既考虑到国内外众多客户要求，又考虑到国情力求使材料规范与国外先进材料接轨，使本规范具有广泛的适用性和可操作性。 3 主要内容的分析综述 3.1主要内容与适用范围 本标准规定了钒蒸发料的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明书与合同（或订货单）内容。 本标准适用于半导体行业用的各类钒蒸发料。 3.2规范性引用文件 本标准针对客户对钒蒸发料要求编写。要求包括：原材料纯度、表面质量、内部质量、尺寸和外观等等方面。引用了推荐性国家标准1项，行业标准1项。 3.3 技术要求 3.3.1 产品分类 综合目前半导体行业用的钒蒸发料市场上所有产品可以按照以下形式分类： 钒蒸发料产品按照纯度分为 IC-V 99.9、IC –V 99.95 两种。 钒蒸发料产品主要分为片状和柱状两种。 3.3.2成分要求 由于集成电路的集成度越来越高，互联线宽度不断减小，因此对钒蒸发料提出非常严格的要求，纯度和杂质含量直接影响着电子薄膜性能。电子薄膜用钒蒸发料分类按照应用纯度主要为99.9%、99.95%两种。 表1 钒蒸发料的化学成分表 牌号 V（质量分数）/% 杂质含量（×10-4）/%，≤ Al B Cr Fe Mo Nb