第九讲_薄膜材料的组织结构(2).pptVIP

薄膜中的应力 Image of a telephone cord buckle on a film. After cutting the film, the buckle geometry and the discontinuity reveal film stress relaxation. 薄膜中应力的测量 描述薄膜中应力的Stony方程 描述薄膜中应力的 Stony 方程 薄膜应力的构成 薄膜中的热应力 薄膜中热应力的计算 薄膜中的热应力 薄膜中的生长应力——其起源 薄膜中的生长应力——其计算 薄膜中生长应力的起源 薄膜中生长应力的起源 ——化学成分方面的原因 薄膜中生长应力的起源 ——微观结构方面的原因 薄膜中生长应力的起源 ——微观结构方面的原因 薄膜中生长应力的起源 ——粒子轰击过程的影响 薄膜的附着力 薄膜的附着力 薄膜附着力的数量级 薄膜的界面 薄膜界面的不同类型 薄膜的界面的不同类型 界面附着力的可能机理 界面附着力的可能机理 界面附着力的可能机理 可以利用来改进薄膜附着力的措施 可以利用来改进薄膜附着力的措施 可以利用来改进薄膜附着力的措施 可以利用来改进薄膜附着力的措施 可以利用来改进薄膜附着力的措施 第七讲 小结 薄膜也要经历形核、长大两个不同的阶段 薄膜的形核过程受热力学、动力学因素的控制，它在某种程度上确定了薄膜的形态 薄膜材料具有其特有的微观结构，它的产生与薄膜的制备条件密不可分 针对不同的需求，可以选择条件，实现非晶薄膜、织构薄膜或单晶薄膜材料的制备 薄膜应力分为热应力、生长应力两大部分。前者产生的原因很简单，但后者产生的原因很复杂，而且与薄膜制备过程密切相关 薄膜附着力问题是一个重要的实际课题 基本概念复习 理解从形核阶段即已开始的薄膜的三种不同的生长模式 影响薄膜新相核心形核率的主要因素和其影响机理，单晶、多晶、非晶薄膜形成的条件 从新相核心演变为连续薄膜的物理过程 四种典型的薄膜组织形态及其形成条件 低温抑制型薄膜的形态和其生长环境 引起低温薄膜生长后表面较为粗糙的物理原因 基本概念复习 高温热激活型薄膜的形态和其生长环境 薄膜织构的概念和织构的形成原因 薄膜外延的概念和薄膜外延的条件 薄膜应力的分类和不同薄膜应力产生的原因 描述薄膜应力的斯通利方程的基本假设和应用其测量薄膜应力的过程 了解薄膜附着力的多个影响因素掌握物理气相沉积、化学气相沉积技术各自的特点。 思 考 题 说明：在真空蒸发法制备薄膜材料时，下列哪些因素会影响薄膜的形核率： 蒸发源的温度，衬底材料的种类，蒸发源-衬底间 的距离，衬底的温度，真空度 讨论：如何提高薄膜生长开始阶段时的形核率？ 说明：为什么在沉积高熔点氧化物薄膜时，很容易得到非晶态结构。 讨论在玻璃衬底上形成的薄膜微观结构的各种可能性。 总结、讨论四种薄膜微观形态的生成条件。 讨论：影响薄膜形核率和影响薄膜形成的微观组织的各因素间的关系。 讨论沉积粒子能量在影响薄膜微观结构方面的作用重要性，说明：为什么有发展离子镀技术的需求。 思 考 题 讨论在衬底温度很高的情况下，薄膜表面粗糙度的可能情况。 讨论晶体结构相同、晶体点阵常数相近（误差%）的Cu、?-Fe在室温条件下相互外延生长成外延薄膜的可能性。 讨论下列金属表面吸附气体分子的吸附状态： Ti金属表面吸附Ar、N2 Au、Fe金属表面吸附O2 说明：柱状晶、单晶、薄膜织构三个不同概念之间的相互关系。 阐明：两种薄膜应力产生的内在原因和降低的可能性。 讨论：如何提高一种实际薄膜材料的附着力。 目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。 与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜 的约2000倍 2）景深提高约300倍 目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。 与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜 的约2000倍