主讲人:张以忱;《真空技术》;主要内容;1. 真空镀膜概论;1.1 真空镀膜技术;1.2 真空镀膜特点;1.3 真空镀膜技术分类;真空表面处理技术的分类;各种干式镀膜技术的比较;1.4 真空镀膜的应用;薄膜的应用;2. 真空蒸发镀膜;2.1 真空蒸发镀膜原理;真空蒸发镀膜原理图;蒸发镀膜成膜条件;真空条件
蒸镀室内真空度应高于10-2Pa
室内残余气体的分子到达基片表面上的几率膜材的蒸发速率;蒸发条件
蒸发速率应足够大以达到工艺要求的沉积速率(kg/m2s);清洗条件
基片应进行镀前处理(粗糙度小,??面上无污染物,无氧化化层等);2.2 蒸发源;电阻加热式蒸发源
——丝状源与箔状源;电阻加热式蒸发源
——铝蒸发用坩埚加热器;电子束加热式蒸发源;电子束加热式蒸发源
——e型枪工作原理示意图;电子束加热式蒸发源
——e型枪电子束偏转角;感应加热式蒸发源;空心阴极等离子体电阻式加热式蒸发源;空心阴极等离子体电阻式加热式蒸发源
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