巨磁阻锰氧化物薄膜材料-精选课件(公开).pptVIP

巨磁阻锰氧化物薄膜材料 王乐 巨磁效应（Giant Magnetoresistance） 巨磁阻效应是一种量子力学和凝聚态物理学现象，磁阻效应的一种，可以在磁性材料和非磁性材料相间的薄膜层（几个纳米厚）结构中观察到。这种结构物质的电阻值与铁磁性材料薄膜层的磁化方向有关，两层磁性材料磁化方向相反情况下的电阻值，明显大于磁化方向相同时的电阻值，电阻在很弱的外加磁场下具有很大的变化量。 磁阻的定义：MR=Δρ/ρ=（ ρ0 -ρ H）/ ρHx100% 锰氧化物具有巨磁阻效应 锰氧化物薄膜制备工艺 主要的两种制备方法：激光脉冲沉积（PLD）、磁控溅射。 步骤：1、制备和薄膜组分相同的成分的陶瓷靶材。2、PLD：用Kr F2准分子激光器对靶材进行脉冲激光照射；磁控溅射：一般选择具有钙钛矿结构的基片，从经济上考虑，可使用价格低廉的Si基片。3、薄膜沉积过程中，为保证膜中氧含量的化学配比，可用O2、N2O、臭氧作为反应气体。 PLD PLD是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。 PLD一般可以分为以下四个阶段： 1. 激光辐射与靶的相互作用 2. 熔化物质的动态 3. 熔化物质在基片的沉积 4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）与生成 巨磁阻锰氧化物薄膜的应用 巨磁阻效应自从被发现以来就被用于开发研制用