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铬掩膜版与平板显示 铬掩膜版与平板显示 一 |一 ,大面积高精度铬版掩膜版的应用现状 21世纪信息显示技术将成为包括我国在内的许多国 家的支柱产业其中液晶(LCD)彩色等离子体(PDP) 等先进的平板显示技术发展尤其迅猛,对光刻所需要的 大面积掩膜版的需求量和图形的精度要求日益提高,并 且掩膜版的面积要求不断增大.从铬版掩膜版的应用现 状和趋势看,呈现以下几个方面的特点: 1.s1生产使用的铬版数量所占用比倒量大,增长 量大 根据夏普技术报和富士调查报告,对LCD市场的 丁FT,STN,TN的统计和预测进行了分类和对比,见图 千亿日元 液晶显示器产值和市场预测 ●996年1997年2001年2005年 图1产值预测 液晶显示产品分类市场数量 ■一1997年2001年2005年 圈2市场预测 哥甄莉赫. — ◆_TFT - I1-STN 古TN — *_其他 — ◆一TFT - I1-STN 古TN — *_M1M TFD ?深圳清溢公司手}堑』龙李跃松●一 平均单价变化 30 25 20 l5 十万日元 一997年2001年2005年 图3平均价格预测 — ◆_TFT — I-STN 古TN l,2,3: 从图1中可以预测看出STN的增长量应保持在 105%的每年增长率,考虑到日本和韩国多条STN生产 线转移到我国,国内STN的产量籽良速增长,因此STN- LCD用铬版的需求量应保持在30--50%的每年增长率, 同时铬版价格稳中有降,以适应市场的需求 2.STN用铬版的精度皇现明显的周期性有规律的 递增(以典型STN缝宽为倒) 表1 表2 以当年度典型的主流高精度STN-LCD产品缝宽设 计可以从表1中看出.其中n-上代产品缝宽值,由于Ic 封装技术和设备融入LCD,如COG(ChipOnGlass), 使显示容量迅速提升,因此铬版生产精度的发展规律与 Ic有类同之处,但是发展周期约为Ic的1/3.这类STN- -i§ 柏如加:20 Ⅱc盘0目 LCDj 需求. 度铬版掩膜版的铬版,N~YAG(532m)激光一用于曝光干l扳及菲林. 3.TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)需求的铬 版掩膜版的尺寸不断=IIl大. 从2表的数据可以看出大尺寸TFT-LCD产品的市 场增长速度,因此所需的铬版掩膜敝尺寸同样成比例增 长,但是受到工艺和材料的限制,最终尺寸似不应超过 ¨00BIII1X950ram 二,高精度铬版掩膜版的制作技术及其特点 国内大面积高精 的高分辨率多光束激光成像系统——MAsKWR1TE,在 数据转换时将设计图形通过软件分割成—条条带状区域, 然后在曝光时像素生成器控制激光点将带状区域逐条直 接光刻在铬版上,经过显影,蚀刻得到铬版掩膜版,再 经检验,激光修补,包装出货.以下对高精度大面积铬 版制作的关键技术简述如下: 1.CAB/CAM技术 对常用的数据格式如DXF,HPGL,GERBER, RS247D/X,GDSII和CIF等具备INPUT和OUTPUT的 能力,引进或开发海量数据图形的图形工作站软件,至 少要有二次开发的能力以形成具有燧算法和配合工艺 特点的自我软体特色,才有较强的行业竞争能力. 2.光捌设鲁殛技术 MASKWRrrE 的最先进的设备,曝光面积达到24x32英寸,精度达±1 m,最小线豇健宽达2¨岫.平台都采用厚重的花岗 岩,并且由排列成三点状的四个气垫支撑,光刻机内部 净化级别为10级,温度使用JULABO精微加热温控系 统将温度控翩在±0.1c℃,这样极高程度上保证了设备 稳定度和精度.MASKWR1TE它使用激光干涉仪测距, 分辨率高达10rim,应用高精度脉宽调制直流电机及精 密机械平台,并使用温度,湿 度的变化而引起的测量及定位误差,使其定位精度可以 达到50rim,可升级到25Bin.更由于它采用了最先进的 高达400MI-IZ的AOM(aeo,~to-optiemodulator),揉舍 其成熟的ONTHEFLY同步控制方法,使其能提供 125rim的定位光栅制作掩膜版,达到20万却i的分辨 率.它包含两种激光He-Cd(442nm)激光一用于曝光 — 条条的带状区域,然后 激光光点逐条扫描每条带.MASKWR1TE包含三种分辨 率:20万dpi,10万却i及5万却i.可升级到50万却i 和100万dpi.不同的分辨率有不同的带宽及扫描速度, 因而曝光时间亦不同,有利于各种档次膜版的生产. 大面积细线条铬版的光刻工艺涉及曝光,蚀刻,涂 胶,版材几方面的问题,我们研究认为以下几点是重要 的: (1)显影删i份和浓度与显影速度的关系 (2)显影时间与线条或窗口宽度的关系 (3)不同类型涂胶铬版对曝光精度的影响 (4)曝光时间宽容度问题 (5)不同显影,蚀刻方式对均匀度的影响 3.