- 3
- 0
- 约3.46千字
- 约 21页
- 2019-12-09 发布于广西
- 举报
Hong Xiao, Ph. D. www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Book.htm Introduction to Semiconductor Manufacturing TechnologyChapter 1, Introduction Topics Introduction IC Device and Design Semiconductor Manufacturing Processes Future Trends Introduction First Transistor, ATT Bell Labs, 1947 First Single Crystal Germanium, 1952 First Single Crystal Silicon, 1954 First IC device, TI, 1958 First IC product, Fairchild Camera, 1961 First Transistor, Bell Lab, 1947 First Transistor and Its Inventors First IC Device Made by Jack Kilby of Texas Instrument in 1958 First Silicon IC Chip Made by Robert Noyce of Fa
您可能关注的文档
最近下载
- (高清版)ZT 0214-2020 矿产地质勘查规范 铜、铅、锌、银、镍、钼.pdf VIP
- 普外科三季度三基考试测试卷及答案.docx VIP
- General Safety and Performance Requirements--XX 产品GSPR安全和性能基本要求检查表 MDR.docx VIP
- 通用安全和性能要求控制程序.docx VIP
- 2026年新版普外科三基考试题库.doc VIP
- 通用安全和性能要求GSPR控制程序.doc VIP
- 环境工程中的污水处理技术.docx VIP
- 风险管理控制程序(符合MDR要求的中英文版).docx VIP
- 医疗器械风险管理计划模板(符合国内要求以及MDR要求).docx VIP
- 2026年最新大二《(环境工程)污水处理技术》试题及答案.docx VIP
原创力文档

文档评论(0)