旋涂TiO2薄膜和电阻测定.docVIP

实验3：旋涂法制备TiO2薄膜和电阻测定 (学习旋涂法和半导体电阻测定技术) 1. 实验目的意义： 半导体光催化技术是近30年发展起来的新兴研究领域，它具有工艺简单，能耗低，操作条件容易控制，降解物质彻底和无二次污染等特点。半导体光催化技术可以用于杀菌消毒，废水处理，生物降解，自清洁涂层等。具有锐钛矿相结构的TiO2是一种比较有效的光催化剂， 它仅仅利用太阳光就能够将水中几乎所有的有机污染物降解为CO2和H2O等无毒物质，此外， TiO2因其良好的化学稳定性，抗磨损性，成本低等特点而成为最具应用潜力的光催化剂。 本实验的目的： 1) 了解TiO2溶胶的制备。 2) 掌握旋涂法制备TiO2薄膜的方法。 3) 掌握TiO2薄膜电阻的测试方法。 2. 实验基本原理 溶胶凝胶法制备TiO2薄膜： TiO2薄膜有很多制备方法，不同的制备方法对薄膜的外观、结构和性能都有不同的影响。TiO2薄膜的制备方法主要有溶胶一凝胶法、化学气相沉积法、物理气相沉积法等。本实验是采用旋涂法在玻璃基底上镀覆TiO2薄膜的镀膜方法。 溶胶凝胶法的基本步骤是将钛的有机醇盐溶于溶剂中，经水解缩聚反应形成稳定的溶胶，然后通过旋转涂层（本实验采用旋转涂层法）、浸渍涂层或喷涂法施于经清洁处理的基材表面，再经干燥焙烧处理即可。常用的有机醇盐有钛酸正丁丁酯、钛酸四异丙酯和钛酸乙酯等，其中最常用的是钛酸正丁酯。同其它方法相比，溶胶凝胶法的优点在于反应过程容易操作，所制得的薄膜化学成分均匀、纯度高且可控，膜孔径小且孔径分布范围窄，低温制备工艺，还可制备多种氧化物的复合薄膜。但此方法时间长，原料成本较高，干燥、锻烧时体积收缩大，易造成纳米TiO2薄膜颗粒间的团聚。 旋涂机的基本原理： 本实验采用旋涂法制备TiO2薄膜。旋涂机瞬间提供可控高旋转速度，迅速将液体、胶状体等材料在衬底上成膜。由于采用铸铝结构，在高转速下运行平稳。其工作原理为：玻璃片粘贴在圆盘上，圆盘高速旋转，溶液滴在高速旋转的玻璃片上，在离心力的作用下，溶液在玻璃片表面形成均匀薄膜涂层。 光催化基本原理： 光催化就是在光的照射下，把光能转变为化学能，并促进有机物的合成或降解的过程。根据吸收光子的物质不同，光催化分为敏化光催化和直接光催化。敏化光催化是指吸附在半导体表面的敏化剂吸收光子后被活化，再将活化产生的电荷转移给半导体，从而引起氧化还原反应的过程。直接光催化是指在光的照射下，半导体自身被激化活化，激化的电荷与吸附的分子发生氧化还原反应的过程。 3. 实验试剂、仪器及装置 钛酸丁酯，无水乙醇，去离子水，乙酸，天平，1OOML量筒，烧杯若干，搅拌机，KW型匀胶机，烘箱，电阻炉，电烙铁，焊锡，TE1501电阻仪等。 4.实验步骤： 1）将一定体积的钛酸丁酯Ti(OC4H9)4加入到适量的无水乙醇中搅拌均匀得溶液A。 2）将去离子水和乙酸按体积比1:3 混合得到溶液B，实验中乙酸和钛酸丁酯保持1:1体积比，乙酸用作延缓钛酸丁酯强烈水解的抑制剂。 3）在连续搅拌的情况下，将溶液B滴入到溶液A中，再经长时间搅拌后将所得溶液放入超声波振荡器中振荡20~30分钟，得到稳定、均匀的TiO2溶胶。 4）将普通载玻片的表面进行清洁处理，干燥后待用。 5）旋涂法制备TiO2溶胶薄膜： a.选择合适的片托，（略小于载玻片尺寸）将缺口对准螺钉。片托安装时一定要到底。 b.开启电源，按下“控制键”,调节合适的匀胶时间和转速。转速Ⅰ为低速，转速Ⅱ为高速。放入载玻片，要注意放正。 c.按下“吸片”键开始抽气。注意在按“吸片”键之前，转速电位器上的指示灯不应亮。 d.按“启动键”，马达先以低速旋转，数字稳定后为实际转速，如：1.50即为1500转/分。 e.滴胶，动作要快些，要在低转速时间内滴胶完毕，然后匀胶机变为高速匀胶。若不知道匀胶机是在低速还是在高速运转，可以从电位器上面的指示灯来判断，红或黄色为低速，绿色为高速。 f.电机停转后，抬起“吸片”键，取下片子。匀胶时间、转速若不合适可随时调节。 g.匀胶结束后抬起“吸片”键、“控制”键，关断电源。 6）经自然干燥形成凝胶后，把涂有TiO2溶胶的载玻片放入高温炉中以10℃/min的速度升温到500℃左右，保温1小时， 自然冷却到室温后取出。 7）焊接电极，测定其TiO2薄膜电阻。 5. 结果与数据处理： 1）选择不同的旋涂机转速，得到不同厚度的TiO2薄膜，烧结处理后测试薄膜电阻。 2）选择3片载玻片，分别进行1~3次旋涂，烧结处理后测试薄膜电阻。 3）将实验条件、实验现象、实验测试结果列表，有关数据作图。 6. 注意事项 1）每次开机前要注意将“控制”键，“吸片”键抬起，开启电源后分别按下各键操作，以避免未启动时电机即转动。 2）旋涂时真空吸盘要防止溶液被吸入，使仪器损坏而无法运转。 3）