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光刻胶知识简介 光刻胶知识简介: 一.光刻胶的定义(photoresist) 　　　又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂 三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很 快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发 生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致 抗蚀剂成像制版过程）。 　　二.光刻胶的分类 　　光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可 分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶 剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻 胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。 　　基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。 　　①光聚合型 　　采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚 合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。 　　②光分解型 　　采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油 溶性变为水溶性，可以制成正性胶. 　　③光交联型 　　采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双 键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗 蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品 KPR 胶即属此类。 　　三.光刻胶的化学性质 　　 a、传统光刻胶：正胶和负胶。 　　光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂 ，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光 剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent），保持光刻胶的液体状态 ，使之具有良好的流动性；添加剂（Additive），用以改变光刻胶的 某些特性 ，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。 　　负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯，一种天然的橡胶；溶剂是二甲苯； 感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂，产生的自由基在橡胶分子间形 成交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨；曝光 时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。 　　正性光刻胶。树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶 的粘附性、化 学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显 影液中；感光剂是光敏化合物（PAC，Photo Active Compound），最常见的是 重氮萘醌（DNQ），在曝光前，DNQ 是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解 速度。在紫外曝光后，DNQ 在光刻胶中化学 分解，成为溶解度增强剂，大幅提 高显影液中的溶解度因子至 100 或者更高。这种曝光反应会在 DNQ 中产生羧酸 ，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形 具有良好的分辨率。 　　b、化学放大光刻胶（CAR，Chemical Amplified Resist）。 　　树脂是具有化学基团保护（t-BOC）的聚乙烯（PHS）。有保护团的树 脂不溶于水；感光剂是光酸产生剂（PAG，Photo Acid Generator），光刻胶曝 光后，在曝光区的 PAG 发生光化学反应会产生一种酸。该酸在曝光后热烘（PEB ，Post Exposure Baking）时，作为化学催化剂将树脂上的保护基团移走，从 而使曝光区域的光刻胶由原来不溶于水转变为高度溶于以水为主要成分的显影 液。化学放大光刻胶 曝光速度非常快，大约是 DNQ 线性酚醛树脂光刻胶的 10 倍；对短波长光源具有很好的光学敏感性；提供陡直侧墙，具有高的对比度； 具有 0.25μm 及其以下 尺寸的高分辨率。 　　 四.光刻胶的技术参数 　　a、分辨率（resolution) 区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用 关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小， 光刻胶的分辨率越好。 　　b、对比度（Contrast）。指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。 对比度越好，形成图形的侧壁越陡峭，分辨率越好。 　　c、敏感度（Sensitivity）。光刻胶上产生一个良好的图形所需一定 波长光的最小能量值（或最小曝光量）。单位：毫焦/平方厘米或 mJ/cm2。光 刻胶的敏感性对于波长更短的深紫外光（DUV）、极深紫外光（EUV）等尤为重 要。 　　d、粘滞性/黏度（Viscosity）。衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性 随着光刻胶中的溶剂的减少而增加；高的粘滞性会产生厚的光刻胶；越小的粘 滞性，就有越均匀的光刻胶厚度。光刻胶的比重（SG，Specific Gravity）是 衡量光刻胶的密度的指标。它与光刻胶中的固体含量有关。较大的比重意味着 光刻胶中含有更多的固体，粘滞性