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- 2020-04-19 发布于安徽
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离子源的功能和原理
3、离子辅助镀膜的薄膜特性:
1、镀层与工件表面同时存在物理气相沉积及化学反应,故镀层结合力高。
2、膜层均匀致密、韧性好;
3、光谱特性稳定,温漂小
4、吸水性减少
5、折射率升高
6、粗糙度降低
7、激光阈值降低
8、膜层发雾,光散射增加
4、离子源参数、性能比较
离子源简介- 考夫曼离子源阴极钨丝加热发射热电子; 电子与气体原子或分子碰撞;气体电离在放电室形成等离子体;多孔栅极产生加速电场;离子被加速电场引出、加速、获得能量; 中和钨丝产生电子;磁场对电子运动进行约束,增加离化率;中和电子对引出离子中和形成等离子体。考夫曼离子源工作原理(Kaufman Ion Source)离子源简介- 考夫曼离子源优点:栅极加速能量大离子可聚束 能量调节范围宽 结构较为简单缺点:×离子源结构仍复杂×馈入氧、氮等反应气体阴极中毒×更换阴极灯丝困难 ×不属主流,较少采用离子源简介- 射频离子源射频离子源工作原理射频放电将气体电离在放电室形成等离子体多孔栅极产生加速电场; 中和钨丝产生电子;离子被加速电场引出、加速、获得能量;中和电子对引出离子中和形成等离子体。离子源简介- 射
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