薄膜生长基础1.pptxVIP

薄膜制备技术Technology of Thin Film Growth;;; 薄膜科学的研究内容： 薄膜生长理论和薄膜制备技术；-制备 薄膜的结构、成分和微观状态；-表征 薄膜的宏观特性及其应用。 -应用;引言;引言;与薄膜技术相关的应用;在信息显示技术中的应用;在信息存贮技术中的应用;在日常生活中的应用;在计算机技术中的应用;在计算机技术中的应用;Lightweight, Flexible, Large Area Solar Sheets;Electric Propulsion Powered by Solar Cells;“Solar House”;“Solar Vehicles”;Solar Aircraft ‘Helio’;Flying nearly 100,000 feet high!;Solar Cells for Clean Water at Remote Sites;与薄膜技术相关的应用;纳米马达的问世——王中林;25;26;27;薄膜技术与生物智能;30;31;32;33; 一条腿能在水面上支撑起15倍于身体的重量，正是这种超强的负载能力使水黾在水面上行动自如。;薄膜制备技术基础; 关于真空的定义，曾有过种种不同的说法。其中一种说法认为：真空就是“真的空了”，就是“什么也不存在的空间”，直到17世纪前后还是这种观点。实际上，即便是目前获得的最高真空度1 ×10-11Pa（7.5 × 10-14Torr），在1cm3中也还残留着大约3000个气体分子，因此，这个定义无论如何也是不能使用的。“真的空了”的状态成为绝对真空，它除了供理论研究之外，并无大大实际意义。; 那么，上面提到的1 ×10-8Pa（7.5 × 10-11Torr）究竟是怎样一种状态呢？下面让我们先用表示真空程度的各种术语来粗略地描述一下。; 排除真空室中残留的气体可不像清除桌面上的灰尘那么容易，再加上真空室材料的放气及渗漏等，这些气体分子可谓是“挥之不去”，“取之不尽”。我们想要从空间除去的“敌人”是如此之小，又以近乎子弹那样的速度飞行，且飞行方向又是无规则的，因此即使是极小的的孔隙也能迅速地穿过，可谓是“无孔不入”，而“漏气”的原因就在于此。; (1)mmHg（毫米汞柱）： 1mmHg=1mm ×13.59509g/cm3×980.665cm/s2=133.322Pa (2)Torr（托）： 1Torr= atm=133.322Pa。mmHg与Torr实质上是一回事，只是新定义的标准大气压省略了尾数（101324.9Pa），故1mmHg=1orr。 (3)bar（巴）： 1bar=106μbar=106dyn/cm2=105Pa (4)at（工程大气压）：1at=1kgf/cm2=9.80665 ×104Pa 此外还有两种英制压强单位：inchHg（英寸汞柱）和psi（普西，即磅力每平方英寸（1bf/in2））。; 在105～102Pa低真空状态下，气体空间的特性与大气相差不大，气体分子密度大，并仍以热运动为主，分子之间碰撞十分频繁，气体分子的平均自由程很短。通常，在此真空区域，使用真空技术的主要目的是为了获得压力差，而不要求改变空间的性质。; 在10-1Pa压力下，气体分子的平均自由程大约为10cm；若低于此压力，则气体已不能按连续流体对待。在10-1～10-5Pa的高真空范围内，分子在运动过程中相互间的碰撞很少，气体分子的平均自由程已大于一般真空容器的线度，以气体分子与器壁的碰撞为主。因此，在高真空状态蒸发的材料，其原子（或微粒）受残余气体分子碰撞被散射的作用很小，前者将按直线方向飞行。由于容器中的真空度很高，残余气体分子与被蒸镀材料的化学作用也十分微弱，薄膜沉积多数发生在此真空度范围内。另外，10-5～10-6Pa也是扩散泵所能达到的极限真空。; 在实际工程中，常会碰到各种气态物质。对于每种气体都有一特定的温度，高于此温度时，气体无论如何压缩都不会液化，这个温度称为该气体的临界温度。利用临界温度来区分气体与蒸气。温度高于临界温度的气态物质称气体，低于临界温度的气态物质称为蒸气。; 在真空技术实践中，要使安装的真空系统符合要求，必须了解构成系统所用材料的饱和蒸气压是否高出系统所需求的真空度。一般材料的饱和蒸气压要低于所需真空度两个数量级。; 设 表示气体分子平均平动动能; 为速率位于 区间的相对分子数或分子处于 间的几率。;(1)最可几速率 最可几速率vp表示气体分子运动中具有这种vp速率的分子数最多，如图所示。它可以通过对