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2020年 光刻胶行业研究报告
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光刻胶行业概述
光刻胶简介
线 线 线 m
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o 料 o 料 c
料 c c .
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p光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加
材 o. 材 o 材 o
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工基衬底上的有机化合物。受紫外光曝光后 ，光刻胶在显影液中溶解度会发生变化 ，从液态变
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为固态。g线、i线是市场上使用量最大的光刻胶。 x
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分类标准 具体类别 备注
IC光刻胶 g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、掩模版光刻胶等
按应用领域 PCB光刻胶 干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等
LCD光刻胶 彩色光刻胶及黑色光刻胶、LCD 衬垫料光刻胶、TFT 配线
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