《集成电路制造工艺与工程应用》第一章引言.pdf

1 载选自《集成电路制造工艺与工程应用》第一章：引言 《集成电路制造工艺与工程应用》第一章：引言 内容简述： 主要介绍集成电路工艺制程技术的发展过程，集成电路工艺制造技术从最初的 BJT 工艺制造技术发展到 CMOS 工艺制造技术，并在 CMOS 工艺制造技术的基础上衍生出 BiCMOS、BCD 和HV-CMOS 工艺制作技术以满足不同功能集成电路的要求。同时器件也 从最初的BJT 发展