磨片流程目和微米换算表磨片室规章制度.docVIP

天然岩石薄片制作流程 原则上，如果不是有非常有必要，请不要在本磨片室制作天然岩石薄片；另外，本磨片室的抛光材料（抛光粉、抛光液和抛光布）和抛光机均属于比较昂贵的进口耗材或机器，请节约和爱护使用！！！ 岩石薄片的制作，根据实际需求的不同（光片、探针片、红外测水、EBSD等），在要求上会有区别，制作薄片的厚度有一定差异，但总体上要遵循如下步骤： 切样—粗磨—细磨—粗抛—粘片—切片—磨片—粗抛（—高抛） 切样。 将岩石标本在岩石切片机上切割成长方形的薄片，制作薄片的一面要求尽量平整，面积大小不要超过玻璃片，如果不是有特殊要求（如需要测量大量的颗粒），样品越小越好（制作）。 注意：请不要使用慢速锯切割天然样品！！除非是非常珍贵的、量很少的小样品。 粗磨。 粗磨的主要目的是将薄片表面打磨光滑，去除表面的划痕和机械损伤层。粗磨使用砂纸，用水将砂纸表面打湿后进行研磨。粗磨一般要遵循循序渐进的原则。首先用180目砂纸打磨（如切片的平整度很高，也只可以直接使用240目砂纸打磨），直到表面没有明显的凹凸，使其趋于平整光滑，但表面一般还会留下许多划痕和刻坑。将样品表面用水清洗，换用240目砂纸打磨，减少表面的划痕。然后用水清洗表面，换用320目的砂纸，进一步减少表面的划痕和刻坑。400目砂纸也一样。粗磨的最后阶段是用600目的砂纸，经过600目的砂纸打磨之后，表面应该比较光滑，无明显划痕，且略有反光效果。 注意：在粗磨的过程中，为了保证薄片最终的效果，一定要遵循循序渐进的原则，砂纸从180目到600目逐渐变细。每一步的打磨时间以实际观察效果而定。使用完毕的砂纸请丢弃在垃圾箱内！ 细磨。 在粗磨之后，要进行细磨的操作。细磨使用氧化铝粉，在玻璃板上进行。磨片室现有9.5um、3.0um和1.0um三种规格的玻璃板和氧化铝抛光粉。如果完成600目的砂纸抛光后样品表面平整度和光洁度已经较好（最常见的情况），建议直接使用3.0um氧化铝粉末细磨。将玻璃板平放在桌面上，倒上适量氧化铝粉末，加少许水，然后将薄片在玻璃板上打磨。在3.0um的玻璃板上打磨薄片的减薄效果较砂纸会大大降低，经打磨表面更加光滑，反光效果更加明显。1.0um氧化铝粉末抛光步骤相同，但对硬度不大的样品可以省略。 注意：1）在细磨的过程中，不同粒度的抛光粉对应固定的玻璃板，请不要混用！2）抛光粉的量不宜太多，适量即可；2）磨片过程中如发生样品部分脱落掉入抛光粉中，不要继续抛光，应丢弃受污染的抛光粉，用胶修复样品的碎裂部分后再继续磨片，否则只会是越磨越差；3）使用完毕后清洗玻璃板！ 粗抛。 抛光的过程包含粗抛和精抛两个步骤，粗抛使用氧化铝或混合（氧化铝+金刚石）悬浮液，在Buehler Phoenix 4000抛光机上手动进行。抛光液使用1.0um和0.3微米氧化铝悬浮液，抛光布使用绒布（MicroCloth）。首先将标记有1.0um的已贴好绒布的磁力盘用水打湿，将其安放在抛光机的转盘上，在绒布中心均匀地倒少许1.0um悬浮液，调整好相关参数，抛光机运转后即可进行抛光。如果绒布表面粘性较大，加适量水降低粘性。每1-2分钟左右应到显微镜下检查抛光效果，一般来说，需要的抛光时间不应超过5分钟就可以达到颗粒内部基本光亮（反光镜下）的效果，否则再延长抛光时间也不会有很大的改善。对普通光片、探针片来说，到这一步就应该能满足绝大部分要求了。如对样品表面光洁程度有更高的需求（如红外光谱测水样品），则可以更换抛光盘，使用0.3微米的抛光液继续抛光。完成后请收起抛光盘，清洁机器，但不要用水清洗盘面上残余的抛光液，下次还可以继续用， 注意：1）悬浮液不要倒太多，用力不要过大，过多的悬浮液效果会适得其反（滑动效应）；2）请一定不要在同一块抛光绒布上混用不同的抛光液（即使他们的粒度是相同的）；3）请尽量节约和爱惜使用抛光液和抛光布。 粘片。 粘片前应对样品进行清洁（水+清洁剂和或超声波清洗），根据薄片的用途，粘片要选择不同类型的胶。如果是一般光片、探针片，使用环氧树脂即可，如果要用于红外测水，则要使用热熔胶。首先将薄片放在烘箱中烘干，去除薄片表面的分子水。然后将其和玻璃片放在加热台上加热片刻，之后在玻璃片和薄片表面上分别均匀涂抹少量的胶，将薄片粘在玻璃片上，轻按，并排除胶中的气泡，涂抹的胶不宜多，适量即可。如果使用环氧树脂粘薄片，进入下一步的等待时间最好超过12小时。 注意：在粘片的过程中，先要对薄片和玻璃片进行预热；粘片时，不宜用力过大且要排除胶中的气泡；在薄片四周不宜残留过多的胶，容易导致冷却过程中玻璃片的碎裂或样品与玻璃之间脱离形成光晕。 切片。 在薄片切割机上将薄片切割为200-1000微米的薄片。 磨片。 这里的磨片主要指将粘好的薄片切割下来之后，对另一面的打磨，其过程与上面二、三步相同，不过在对薄片的厚度