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- 2020-06-06 发布于江苏
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第三章 pn结及其伏安特性
pn结的制备
3.1
pn结的基本原理 3.2
pn结电流电压特性
3.3
3.1 pn结的制备
在同一片半导体基片上,采用特殊制作工艺,分别制作p 型半导体和n 型半导体,
经过载流子的扩散,在它们的交界面处就形成了pn 结。
半导体器件的基本单元,整流效应
本征半导体
扩散Ⅲ族 扩散V族
元素 元素
p-型 n-型
3.1 pn结的制备
3.1 pn结的制备
3.1 pn结的制备
3.1 pn结的制备
3.1 pn结的制备
3.1 pn结的制备
3.1 pn结的制备
突变结:PN结两区中
的杂质浓度为均匀分布,
且在交界面处发生杂质
突变。如果一区的杂质
浓度远高于另一区,称
为单边突变结 P+N或 N+P结。由合金、浅扩散
或低能离子注入形成。
线性缓变结:结附近,其杂质分布是缓变分布的,可以用直
线近似,其斜率称为杂质浓度梯度。由深扩散或高能离子注入
制得的结。
3.2 pn结的基本原理
漂移运动是电场力作用的结果
在没有电场作用时,半导体载流子是不规则的热运动,因而不形成电流。
当有电场时,半导体中的载流子将产生定向运动,称为漂移运动。
扩散运动是载流子浓度分布不均匀所至
在半导体受光照射或有载流子从外界注入时,使半导体内载流子浓度分布不
均匀。这时载流子便会从浓度高的区域向浓度低的区域运动。这种由于浓度
差而引起的定向运动,称为扩散运动。
因浓度差
?
多子的扩散运动?形成空间电荷区
? 空间电荷区形成内电场
? ? 内电场促使少子漂移 内电场阻止多子扩散
3.2 pn结的基本原理
漂移运动
内电场越强,就使漂移
运动越强,而漂移使空
间电荷区变薄。
内电场E
- - - - - -
+ + + + + +
- - - - - -
+ + + + + +
N型半导体
P型半导体
- - - - - -
+ + + + + +
- - - - - -
+ + + + + +
空间电荷区,
也称耗尽层。
扩散运动
扩散的结果是使空
间电荷区逐渐加宽,
空间电荷区越宽。
3.2 pn结的基本原理
空间电荷区中内
电场阻碍p中的
空穴、n区 中的
电子(都是多子)
向对方运动(扩
Ec
Ef
Ei
散运动)。
Ev
刚开始时,扩散运动强于漂移运动,使空间电荷区不断加宽,内建电
场也随之增强,这又使得漂移运动增强,阻止空间电荷区继续变宽,
最后当这两种运动达到平衡态时,内建电场不再变化,空间电荷区的
宽度稳定了,便形成了pn结。
3.2 pn结的基本原理
pn结接触电势差与势垒高度
从功函数的角度 分析pn结的形成
V
bi
?
1
q
(
? ? ?
p n
)
?
1
q
n
(E
F
?
p
E
F
)
?
k T
B
q
?
?
?
ln
?
N N
a
2
n
i
d
?
?
?
?
与二边掺杂有
关,与Eg有关
3.2 pn结的基本原理
pn结接触电势差与势垒高度
单从掺杂浓度的角度考虑,空间电荷区会落在那一边比较多?
3.2 pn结的基本原理
空间电荷区电场、电势的分布及耗尽宽度的计算
求解半导体输运方程组,需要做一些假设:
? 半导体材料是理想的、高纯度的、不存在界面态;
P型半导体界面和n型半导体界面是理想界面
? 内建电压Vbi只存在pn结内部;
内建电压只存在于空间电荷区
? pn结被划分为空间电荷区、电中性n型区和电中性p型区;
3.2 pn结的基本原理
空间电荷区电场、电势的分布及耗尽宽度的计算
(1)耗尽近似:
? 内建电场只存在于空间电荷
区,空间电荷区没有自由载
n 型
p型
电中
电中
性区
性区
衬底
流子,内建电场完全由掺杂
离子引起;
? 电中性区,没有内建电场,
多子浓度仍处于热平衡状态,
少子浓度的变化引起电流J;
空间电荷区
3.2 pn结的基本原理
空间电荷区电场、电势的分布及耗尽宽度的计算
根据耗尽近似,
空间电荷区的
n 型
p型
电中
电中
性区
性区
衬底
电场完全由掺
杂离子组成
内建电场电势
如何分布?有
泊松方程得出
?fixed ? ?N ,? ? ? x ?
a p
0
?fixed ? N ,0 ? x ? ?
d n
空间电荷区:n=0, p=0
3.2 pn结的基本原理
n型 p型
电中 电中 衬底 性区
性区
?fixed ? N ,0 ? x ? ?
d n
?fixed ? ?N ,? ? ? x ?
a p
0
空间电荷区:n=0, p=0
3.2 pn结的基本原理
根据耗尽近似,p型 半导体和n型半导体
n型 p型
界面为理想界面, 电中 电中 衬底
性区 得出边界条件,即x
性区
=0处电势和电场
3.2 pn结的基本原理
方程
p型
电中
性区
n型
电中
性区
衬底
边界
条件
设为势能零
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