2010年代cmos工艺流程.docVIP

下载本文档

184
0
约1.18千字
约 22页
2020-06-05 发布于未知
举报
版权申诉

2010年代cmos工艺流程.doc

1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

2010年代CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——浅槽隔离 77 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——浅槽隔离（续） 78 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——双阱形成 79 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——栅极、NMOS SDE、侧壁间隔层形成 80 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——栅极、NMOS SDE、侧壁间隔层形成（续）81 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——源/漏极SEG 82 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——源/漏极SEG（续） 83 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——后栅HKMG 84 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——后栅HKMG（续） 85 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——接触 86 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——接触（续） 87 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——金属1 88 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——金属1（续） 89 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——通孔1、金属2铜/低?互连 90 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——通孔1、金属2铜/低?互连（续） 91 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——通孔1、金属2铜/低?互连（续） 92 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——金属3至金属9铜/低?互连 93 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——金属3至金属9铜/低?互连（续） 94 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——金属3至金属9铜/低?互连（续） 95 32nm/28nm CMOS工艺流程 32nm/28nm CMOS工艺流程——无铅焊料凸点形成 96 32nm/28nm CMOS芯片具有高?金属栅(HKMG)、应力记忆技术(SMT)、选择性外延生长(SEG)SiGe源/漏、铜和超低k互连、无铅焊料凸点的CMOS芯片横截面示意图 97